[发明专利]一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构在审
| 申请号： | 202011504143.8 | 申请日： | 2020-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN112526797A | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 张亚平 | 申请（专利权）人： | 湖北科技学院 |
| 主分类号： | G02F3/02 | 分类号： | G02F3/02 |
| 代理公司： | 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 | 代理人： | 汪彩彩 |
| 地址： | 437100 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 双周 石墨 阵列 复合 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构，其特征在于，包括若干个周期复合单元，所述每个复合单元包括第一电介质层(A)、第二电介质层(B)和单层石墨烯(g)，所述每个复合单元的排列方式为：由复合结构的入射方向一侧至另一侧依次设置单层石墨烯(g)、第一电介质层(A)、单层石墨烯(g)、第二电介质层(B)；所述第一电介质层(A)的厚度小于第二电介质层(B)；所述出射方一侧为石墨烯(g)。
2.根据权利要求1所述一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构，其特征在于，所述第一电介质层(A)和第二电介质层(B)均为二氧化硅材质的透光材料制成。
3.根据权利要求1所述一种基于双周期石墨烯阵列的复合结构，其特征在于，所述第二电介质层(B)的厚度为第一电介质层(A)的厚度的四倍。
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