[发明专利]基于PLC控制的大宗气站系统在审
申请号: | 202011477067.6 | 申请日: | 2020-12-15 |
公开(公告)号: | CN112664832A | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 白雪萍;董云海;鲁毅;王志民;林坤;张雷;沙婷;罗文键 | 申请(专利权)人: | 中船重工(邯郸)派瑞特种气体有限公司 |
主分类号: | F17C13/02 | 分类号: | F17C13/02;F17C13/12 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 周蜜;仇蕾安 |
地址: | 057550 河北省邯*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 plc 控制 大宗 系统 | ||
1.基于PLC控制的大宗气站系统,其特征在于:所述系统包括储罐、汽化器、流量计、纯化器、前过滤器、后过滤器、PLC控制装置以及一级监控部;
前过滤器、纯化器、后过滤器依次连接形成纯化通路,且两条纯化通路并联,接近后过滤器的纯化通路输出端为大宗气站的供应端,接近前过滤器的纯化通路输入端按顺序依次与流量计、纯化器、储罐连接;PLC控制装置用于采集储罐内需要监控的参数数据并将采集的数据传输给一级监控部完成人机画面交换。
2.根据权利要求1所述的基于PLC控制的大宗气站系统,其特征在于:所述一级监控部为Intouch组态软件。
3.根据权利要求1所述的基于PLC控制的大宗气站系统,其特征在于:所述系统还包括二级监控部,二级监控部为半导体厂的FMCS系统,PLC控制装置将半导体厂所需的参数数据传输给半导体厂的FMCS系统,供半导体厂务进行监控。
4.根据权利要求1所述的基于PLC控制的大宗气站系统,其特征在于:所述系统还包括泄露报警装置,泄露报警装置与PLC控制装置信号连接,并通过PLC控制装置向一级监控部和二级监控部发出报警信号。
5.根据权利要求4所述的基于PLC控制的大宗气站系统,其特征在于:所述泄露报警装置选用声光报警器。
6.根据权利要求1所述的基于PLC控制的大宗气站系统,其特征在于:前过滤器选用孔径为0.1μm的过滤器,后过滤器选用孔径为0.03μm的过滤器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中船重工(邯郸)派瑞特种气体有限公司,未经中船重工(邯郸)派瑞特种气体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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