[发明专利]消毒装置在审
申请号: | 202011382102.6 | 申请日: | 2020-11-30 |
公开(公告)号: | CN114569778A | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 陈垒;高东 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | A61L9/20 | 分类号: | A61L9/20;A61L9/16;A61L9/18;B01D46/00;B01D46/10 |
代理公司: | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人: | 罗纯静 |
地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 消毒 装置 | ||
本公开涉及一种消毒装置,其包括壳体、反光罩、消毒光线发射装置和风机,反光罩设置于壳体内并且具有消毒通道,壳体上设置有分别与外界连通的进风口和出风口,进风口、消毒通道、出风口依次连通,风机设置于进风口和出风口之间,以将气流从进风口吸入消毒通道并从出风口排出;反光罩具有构造为环形抛物面形状的反光面,反光罩设置有沿环形抛物面的中心轴线方向间隔设置的消毒进口和消毒出口,消毒进口和消毒出口之间的空间为消毒通道,环形抛物面具有第一焦点和第二焦点,消毒光线发射装置设置在第一焦点和第二焦点之间的连线上,并且构造为朝向反光面从消毒进口朝向消毒出口发射光线,以减少消毒光线发射装置发出的光线经过反光面反射的次数。
技术领域
本公开涉及消毒装置技术领域,具体地,涉及一种消毒装置。
背景技术
目前市面上现有的消毒装置大都选择采用紫外线进行消毒杀菌。紫外线 杀菌是运用物理方法产生不同波段的紫外线辐射损伤和破坏微生物(细菌、 病毒、芽胞等病原体)机体细胞中的DNA(脱氧核糖核酸)或RNA(核糖 核酸)的分子结构,造成生长性细胞死亡和/或再生性细胞死亡,改变生物活 性,致使微生物不能复制繁衍达到消毒杀菌的目的。但是,由于紫外线在空 气中随着距离的增加或随着反射次数的增加,衰减明显,常规的紫外线消毒 装置对紫外线的利用率不高。
发明内容
本公开的目的是提供一种消毒装置,能够提高对紫外线的利用率,提高 消毒效果。
为了实现上述目的,本公开提供一种消毒装置,其包括壳体、反光罩、 消毒光线发射装置和风机,所述反光罩设置于所述壳体内并且具有消毒通 道,所述壳体上设置有分别与外界连通的进风口和出风口,所述进风口、所 述消毒通道、所述出风口依次连通,所述风机设置于所述进风口和所述出风 口之间,以将气流从所述进风口吸入所述消毒通道并从所述出风口排出;
所述反光罩具有构造为环形抛物面形状的反光面,所述反光罩设置有沿 所述环形抛物面的中心轴线方向间隔设置的消毒进口和消毒出口,所述消毒 进口和所述消毒出口之间的空间为所述消毒通道,所述环形抛物面具有第一 焦点和第二焦点,所述消毒光线发射装置设置在所述第一焦点和所述第二焦 点之间的连线上,并且构造为朝向所述反光面从所述消毒进口朝向所述消毒 出口发射光线,以减少所述消毒光线发射装置发出的光线经过所述反光面的 反射的次数。
可选地,所述环形抛物面的沿其中心轴线方向的纵向截面具有第一抛物 线段和第二抛物线段,所述第一抛物线段的焦点为所述第一焦点,所述第二 抛物线段的焦点为所述第二焦点,所述第一抛物线段和所述第二抛物线段相 对于所述中心轴线对称布置,所述消毒光线发射装置具有光线发射面,所述 光线发射面位于所述第一焦点和所述第二焦点的连线上并且垂直于所述中 心轴线。
可选地,所述第一抛物线段所在的第一抛物线具有第一对称轴,所述第 二抛物线段所在的第二抛物线具有第二对称轴,所述第一对称轴和所述第二 对称轴分别与所述中心轴线之间具有夹角α,并且所述夹角α为0-30°。
可选地,所述第一焦点位于所述第二抛物线段所在的第二抛物线上,所 述第二焦点位于所述第一抛物线段所在的第一抛物线上。
可选地,所述消毒光线发射装置设置在所述消毒进口远离所述消毒出口 的一侧,所述消毒光线发射装置的最大光线照射锥体与所述反光面之间具有 垂直于所述中心轴线的交面,在所述纵向截面上,所述交面与所述第一抛物 线段的交点为交点C,经过所述交点C并且平行于所述第一抛物线的第一对 称轴的直线与所述第二抛物线的交点为交点G,在所述纵向截面上,经过所 述第二焦点并且平行于所述第一抛物线的对称轴的直线与所述第二抛物线 的交点为交点P,所述消毒出口所在的端面位于垂直于所述中心轴线且经过所述交点P的第一平面和垂直于所述中心轴线且经过所述交点G的第二平面 之间。
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