[发明专利]一种高精度双轴深层水平位移自动测量方法及测量系统在审
申请号: | 202011291292.0 | 申请日: | 2020-11-18 |
公开(公告)号: | CN112359886A | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 黄帆;吴廷;姚远 | 申请(专利权)人: | 上海市建筑科学研究院有限公司 |
主分类号: | E02D33/00 | 分类号: | E02D33/00;G08C17/02;G05B19/04 |
代理公司: | 上海三方专利事务所(普通合伙) 31127 | 代理人: | 吴玮 |
地址: | 200032 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高精度 深层 水平 位移 自动 测量方法 测量 系统 | ||
1.一种高精度双轴深层水平位移测量方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、连接高精度双轴测斜探头与自动提升控制装置;
S2、在自动提升控制装置上设置下放的深度、提升的高度以及测量的时间间隔;
S3、根据设定的深度自动下放探头,通过自动提升控制装置根据设定的测段长度,控制探头提升高度至预定的高程,使探头在预定高程测量数据;
S4、根据测量数据进行误差分析;
S5、若数据误差符合精度要求,重复步骤S3~S4,进行下一高程的测量。
进一步的,还包括以下步骤:
S6、若数据误差过大且可以判断非系统本身的原因,人工介入控制探头提升,通过手工方式进行测量。
2.根据权利要求1所述的一种高精度双轴深层水平位移测量方法,其特征在于,在所述步骤S4中,所述误差分析包括以下步骤:
S41、分析测量点位数据稳定性;
S42、分析传感器角度定位误差;
S43、分析系统误差;
S44、分析零漂误差。
3.根据权利要求2所述的一种高精度双轴深层水平位移测量方法,其特征在于,在所述步骤S43中,还包括以下步骤:
S431、分析系统相对误差;
S432、分析系统累计误差。
4.根据权利要求1所述的一种高精度双轴深层水平位移测量方法,其特征在于,在所述步骤S3中,所述探头在预定高程测量数据包括以下步骤:
S31、在探头保持不动的状态下,通过探头进行一测回的测量;
S32、将探头旋转90°,进行二测回的测量。
5.一种高精度双轴深层水平位移测量系统,其特征在于,包括互相连接的高精度双轴测斜探头和自动提升控制装置,所述自动提升控制装置包括提升控制中心,所述提升控制中心包括提升算法模块、数据及误差分析模块、报警模块和控制模块,所述提升算法模块用于在测量工作前提前设定下放的深度、提升的高度以及测量的时间间隔,使所述高精度双轴测斜探头在控制模块的控制下根据设定自动控制下放和提升,在每个时间间隔内完成测量工作,并将数据传输到数据及误差分析模块,所述数据及误差分析模块对测量误差进行分析,若误差过大且可以判断非系统本身的原因,则报警系统启动,人工介入控制该测段的提升。
6.根据权利要求5所述的一种高精度双轴深层水平位移测量系统,其特征在于,所述高精度双轴斜侧探头,在现有双轴测斜探头的基础上,沿侧壁两个方向新增加了4个计程轮,所述探头内部安装有与自动提升控制装置连接的通讯模块,用于传输探头的测量数据。
7.根据权利要求6所述的一种高精度双轴深层水平位移测量系统,其特征在于,所述自动提升控制装置通过高强纤维与所述高精度双轴斜侧探头连接,并通过滚轮控制所述高精度双轴斜侧探头的下放深度和提升高度。
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