[发明专利]一种碳石墨涂层用自动升降涂层平台

说明书

本发明涉及抗氧化石墨材料涂层机械技术领域，具体为一种碳石墨涂层用自动升降涂层平台，其包括安装板、涂层升降平台、升降驱动机构及拨动清扫机构，单质硅粉末与氧化铝粉末通过反应形成氧化硅气体会通过管道输送到涂层升降平台处对涂层升降平台上的石墨工件进行涂层，在涂层过程中，配合涂层升降平台的下降，利用拨动清扫机构，使的石墨工件在整个反应过程中，绕轴向进行旋转，达到均匀涂层，并且拨动清扫机构还会在涂层过程中，不断对石墨工件表层进行清扫，达到涂层表面的清洁与附着强度，解决了现有石墨工件涂层不均匀的技术问题。

技术领域

本发明涉及抗氧化石墨材料涂层机械技术领域，具体为一种碳石墨涂层用自动升降涂层平台。

背景技术

石墨材料是一种具备多种优良特性的基础材料，特别是在高温条件下＞1200℃，仍能保证充分的产品性能，这是普通的金属材料所无法实现的。但石墨材料存在一个最大的缺陷就是在含氧环境中会因氧化而无法实现以上功能，因此基于涂层技术而对石墨材料进行表面改性，使得石墨材料可以在含氧环境中正常的发挥其优良特性。

现在主流的石墨表面改性技术是气相沉积涂层法CVD，通过该方法可以在石墨表面生成一层致密的独立的涂层结构，使得石墨材料与外界含氧环境隔离开来，进而起到保护石墨材料的作用。

现有涂层技术存在的问题和缺点主要是CVD技术制备石墨材料的涂层，其工艺过程复杂，原料成本高，能获得均匀度较高的石墨涂层结构，但综合成本较高，在中低端的抗氧化石墨材料的应用环境中显得性价比不足，难以得到广泛应用。

在专利申请号为CN201210374319.1的中国专利中，公开了一种在石墨表面制备碳化硅涂层的方法，该方法为：一、将装有固体硅料的石墨坩埚置于高温石墨化炉内，将石墨基体置于石墨坩埚内的石墨支架上，利用硅蒸气和石墨基体表面的碳直接反应生成一层碳化硅涂层；二、将表面生成碳化硅涂层的石墨基体置于化学气相沉积炉内，在石墨基体表面的碳化硅涂层表面裂解生成一层CVD(化学气相沉积)碳化硅涂层。

虽然，上述专利中公开的技术方案解决了利用硅蒸汽在石墨工件表面形成抗氧化的碳化硅涂层，但是该技术方案并未公开仍何运用于石墨工件进行涂层加工用的涂层平台的技术内容。

发明内容

针对以上问题，本发明提供了一种碳石墨涂层用自动升降涂层平台，单质硅粉末与氧化铝粉末通过反应形成氧化硅气体会通过管道输送到涂层升降平台处对涂层升降平台上的石墨工件进行涂层，在涂层过程中，配合涂层升降平台的下降，利用拨动清扫机构，使的石墨工件在整个反应过程中，绕轴向进行旋转，达到均匀涂层，并且拨动清扫机构还会在涂层过程中，不断对石墨工件表层进行清扫，达到涂层表面的清洁与附着强度，解决了现有石墨工件涂层不均匀的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种碳石墨涂层用自动升降涂层平台，包括：

安装板，所述安装板水平固定设置；

涂层升降平台，所述涂层升降平台平行于所述安装板设置于该安装板的正上方，该涂层升降平台承载进行涂层的石墨工件，所述涂层升降平台与所述石墨工件接触部位嵌设有若干滚动的滚珠；

升降驱动机构，所述升降驱动机构驱动所述涂层升降平台沿竖直方向升降设置，该升降驱动机构包括驱动组件及升降组件，所述驱动组件通过升降组件驱动所述涂层升降平台沿竖直方向升降设置；以及

拨动清扫机构，所述拨动清扫机构安装于所述涂层升降平台上，该拨动清扫机构包括拨动组件及清扫组件，且该拨动清扫机构随所述涂层升降平台的下降，所述拨动组件通过摩擦带动所述涂层升降平台上的石墨工件绕轴向自旋转，同步的，所述清扫组件对所述石墨工件的侧壁进行清扫处理。

作为改进，所述驱动组件包括：

驱动电机；