[发明专利]一种光纤预制棒制造设备有效
| 申请号: | 202011270499.X | 申请日: | 2020-11-13 |
| 公开(公告)号: | CN112408775B | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
| 发明(设计)人: | 刘旋;郭浩;喻煌;岳静;谢校臻 | 申请(专利权)人: | 烽火通信科技股份有限公司;烽火藤仓光纤科技有限公司 |
| 主分类号: | C03B37/018 | 分类号: | C03B37/018 |
| 代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 兰岚 |
| 地址: | 430000 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光纤 预制 制造 设备 | ||
本发明涉及光纤预制棒生产技术领域,具体涉及一种光纤预制棒制造设备,该光纤预制棒制造设备,包括:密封机构,其包括间隔设置的进气端密封件和出气端密封件,用于密封反应管的两端;还包括微波谐振腔,其用于套设在所述反应管的外侧,并可沿所述反应管的轴向方向往复运动;还包括进气管,其包括用于伸入所述反应管的出气端,所述进气管穿过进气端密封件,且所述出气端被配置为在所述反应管内与所述谐振腔同步往复运动。本发明能够解决现有技术中反应管内的反应物在每个沉积点的反应浓度不一致,会导致光棒在轴向上不均匀的问题。
技术领域
本发明涉及光纤预制棒生产技术领域,具体涉及一种光纤预制棒制造设备。
背景技术
近年来,随着4G的大规模部署以及5G的商用,数字化进程正向前飞速发展,人们对数据传输的需求量也与日俱增。于此同时,通信光纤作为数据传输中最重要的组成部分,也一直受到人们的关注。
PCVD等离子化学气相沉积工艺是当前制备通信光纤最常用的方法,该种工艺可沉积数千层的沉积层,因而在波导结构设计和材料组成及结构设计方面十分精准。具有高精度的折射率分布控制、高沉积效率、极好的灵活性等特点。PCVD工艺不仅能生产高质量的多模光纤和常用的G652D单模光纤、还能生产结构复杂的色散位移单模光纤和色散补偿光纤等。
PCVD的沉积工艺是将反应管置于恒定的保温炉内,通过在反应管内部通入SiCl4,GeCl4等原材料气体,反应气体在微波等离子的作用下形成活性离子,这些活性离子接触到反应管内壁后沉积在反应管内壁。微波沿着反应管来回往复平移运动,每一次运动沉积一层微米级的玻璃薄层。通过调整微波每次往复运动时的反应物配比及浓度,可以得到设定的折射率剖面。该种方法在折射率剖面的控制方面具有非常高的精度,可以得到我们想要的任何形状的折射率剖面,也是我们制备复杂折射率剖面光纤的最优选择。虽然该种方法在折射率剖面的控制方面非常精准,但是反应物的沉积也受到其他方面的影响。例如每个沉积点的反应物浓度不一致,会影响光棒在轴向上的不均匀性。
发明内容
针对现有技术中存在的缺陷,本发明的目的在于提供一种光纤预制棒制造设备,能够解决现有技术中反应管内的反应物在每个沉积点的反应浓度不一致,会导致光棒在轴向上不均匀的问题。
为达到以上目的,本发明采取的技术方案是:
本发明提供一种光纤预制棒制造设备,包括:
密封机构,其包括间隔设置的进气端密封件和出气端密封件,用于分别密封反应管的两端;
谐振腔,其用于套设在所述反应管的外侧,并可沿所述反应管的轴向方向往复运动;
进气管,其包括用于伸入所述反应管的出气端,所述进气管穿过进气端密封件,且所述出气端被配置为在所述反应管内与所述谐振腔同步往复运动。
一些可选地实施例中,还包括套设在所述进气管上的可伸缩机构,其一端与所述进气端密封件密封连接,另一端与所述出气端密封连接,所述可伸缩机构可随所述进气管的往复运动同步伸缩。伸缩机构可进入反应管中,也不可不进入反应管中。
一些可选地实施例中,所述可伸缩机构包括:
隔离管,其套设在所述进气管上,且一端与所述出气端密封连接,并随所述出气端一起往复运动;
可伸缩单元,其套设在所述进气管上,且两端分别与所述隔离管和进气端密封件连接,所述可伸缩单元可随所述隔离管的往复运动同步伸缩。
一些可选地实施例中,所述进气管的出口设有金属微波隔离网。
一些可选地实施例中,还包括保温炉,其用于套设在所述反应管和谐振腔外侧,用于为反应物提供稳定的温度场。
一些可选地实施例中,所述保温炉包括前中后三段可控温度段。
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