[发明专利]基于改进粒子群算法提升LED照明均匀性的方法在审

专利信息
申请号: 202011267599.7 申请日: 2020-11-13
公开(公告)号: CN112347597A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 张团善;雒强杰 申请(专利权)人: 西安工程大学;绍兴市柯桥区西纺纺织产业创新研究院
主分类号: G06F30/18 分类号: G06F30/18;G06F30/27;G06N3/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 燕肇琪
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 改进 粒子 算法 提升 led 照明 均匀 方法
【说明书】:

发明基于改进粒子群算法提升LED照明均匀性的方法,包括建立数学模型,构建评价函数,进行软件建模,对所建立的模型进行仿真模拟,然后进行算法优化前后的对比,经过算法优化,均匀性得到了一定的提高。本发明的通过采用算法和数学建模,减少大量的数学计算,通过建模建立软件对应的模型,提高工作效率。

技术领域

本发明属于光源照明方法技术领域,涉及基于改进粒子群算法提升LED照明均匀性的方法。

背景技术

LED作为第四代照明光源,由于高光效、体积小、低能耗等特点,在工业中得到广泛的应用。因单个LED发光效率有限,为了提高发光效率,使其能应用于各种场合需要。采用阵列排布的方式来满足。但LED发光近似朗伯分布,会使得光照不均匀。为了解决这类问题,对LED还需进一步光学设计,提高它的均匀性。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基于改进粒子群算法提升LED照明均匀性的方法,通过LED朗伯体发光模型,推导照射面的阵列分布光照度模型,以照射面光照强度的均方根差作为评价函数,算法改进之后优化的位置分布,使照射面的光照度具有较高的均匀性。

本发明的技术方案是:基于改进粒子群算法提升LED照明均匀性的方法,包括以下步骤:包括以下步骤:步骤1建立光源阵列分布的数学模型;步骤2,用被照射面的均方根差作为评价函数反映阵列的均匀性;步骤3,对LED阵列的光照度在光学软件Tracepro中进行仿真模拟,得到改进粒子群算法后LED阵列分布的光照仿真结果。

进一步地,所述步骤1中建立光源阵列分布的数学模型,具体为:

E(r,θ)=E0(r)cosmθ (1)

其中,θ是光源的发光角,E0(r)是θ=0方向上距离为r处的照度值,m为光源的朗伯辐射指数,当m=1时,LED可当作理想朗伯光源,受到工艺限制,其值通常大于1,由(1)式可知,m值越小,光照强度E会越大,其值可由公式(2)得到:

m=1η2/[1η2(cosθ1/2)] (2)

其中,θ1/2是光源的发光强度为最大值一半时的角度,由公式(1)和公式(2)计算可得,当LED光照与接收面垂直时,得到光强公式为:

其中,z为光源到照射平面的距离,I0为光源法线上的光强,为了便于研究,将公式(3)在直角坐标系下转换坐标,可设光源平面上某一点A(x,y,z)距离光源平面z的照射面上某一点C(xp,yp,0)处的光照强度为:

因为单个LED芯片的发光功率很小,通常用多个LED成阵列分布使用,本文采用平面阵列分布共有N个来进行研究,因为LED是一种非相干光源,故C点的光照强度是N个光源(xi,yi,z)在C点处的叠加;

由公式(4)可得,N个光源到照射面C点的总光照强度是:

进一步地,所述步骤2中用被照射面的均方根差作为评价函数反映阵列的均匀性,具体为:

定义的照射面均匀度为最小照度与均匀照度之比,即U=Emin/Eav,本文采取上述方法评价光照均匀性,为了便于计算,将照射平面分为N×M个点,由公式(5)得出照射面上的平均光照强度,以及标准差为:

对于照射平面的均匀性的判定,不同的研究对其有着不同方式的定义,本文使用均方根误差为评价函数,来判定照射面的均匀性,取均方根误差作为适应度函数:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安工程大学;绍兴市柯桥区西纺纺织产业创新研究院,未经西安工程大学;绍兴市柯桥区西纺纺织产业创新研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011267599.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top