[发明专利]一种减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响的方法

说明书

本发明公开了一种减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响的方法，包括以下步骤：S1、确定哪个铅门需要减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响的处理；S2、选定固定铅门射野铅门的坐标可取值区间；S3、定制此铅门下方的一叶片为静止闭合叶片，使得遮挡固定铅门野铅门的叶片静止闭合；S4、设定计划系统中的固定铅门射野的减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响选项系统；本发明通过以设置值为优化值，计算时以虚拟坐标值计算，计划批准时以虚拟坐标作为实际铅门坐标，进而有效的解决了固定铅门射野的铅门的到位误差有可能到遮挡运动投射叶片造成靶剂量的改变。

技术领域

本发明涉及铅门到位误差对剂量影响方法技术领域，特别是涉及一种减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响的方法。

背景技术

近年来随着放射治疗技术的飞速发展,固定射野铅门技术越来越多的运用于临床，固定铅门技术有效降低患者正常组织的低剂量照射同时还能保证治疗靶区的剂量覆盖，然而在固定铅门射野中往往有一块平行于MLC叶片的铅门边界直接在靶区上方，此铅门的到位误差会造成铅门对投射射线的叶片遮挡宽度的发生改变，进而影响剂量，使得PTV中出现剂量冷点及低剂量区域，这给治疗带来了很大的不确定，降低了计划剂量对铅门到位误差的容错（Tolerant），研究发现剂量改变量与铅门误差改变宽度下的叶片对射线投射的多少成正相性，然而影响叶片对射野的因素很多，我们无法得知计划优化后固定铅门射野的铅门边界下的叶片如何投射射线，如图2（①若叶片对1为静止闭合叶片，叶片对2为运动投射叶片，此时铅门Y1到位有误差时由于静止闭合叶片对1的遮挡对剂量的影响很小。②若叶片对1为运动投射叶片，当铅门Y1有到位误差时改变了叶片对1宽度内对射线的投射造成剂量的变化。③若叶片对1为静止闭合叶片，叶片对2为运动投射叶片，此时铅门Y1到位有误差时，可能直接遮挡到叶片对2，对剂量造成影响。）减小这给问题的解决带来了困难，这一问题急需解决。

发明内容

为实现上述目的，本发明采用的一个技术方案是：提供一种减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响的方法，利用静止闭合叶片遮挡铅门，这样铅门在静止闭合的叶片后，即使铅门有到位误差射线始终有此静止闭合的叶片遮挡，从而不会出现由于铅门到位误差遮挡运动投射叶片造成剂量的较大的变化，减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响，包括以下步骤包括以下步骤：S1、确定哪个铅门需要减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响的处理，平行于MLC叶片的铅门，投影边界在靶区中；S2、选定固定铅门射野铅门的坐标可取值区间：铅门边界到静止闭合叶片边界的距离大于等于铅门到位精度误差；S3、定制此铅门下方的一叶片为静止闭合叶片，使得遮挡固定铅门野铅门的叶片静止闭合；S4、设定计划系统中的固定铅门射野的减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响选项系统。

其中，在S1、确定哪个铅门需要减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响的处理中定位叶片静止闭合的状态位置，即叶片被铅门全部遮挡的状态位置。

其中，在S3、定制此铅门下方的一叶片为静止闭合叶片，使得遮挡固定铅门野铅门的叶片静止闭合的方案中，对叶片静止闭合状态下的铅门边界处的叶片上方区间内，优化铅门的虚拟坐标，此虚拟坐标具体为下次叶片完全遮挡次叶片。

其中，在S4、设定计划系统的叶片静止闭合时的定位区间中通过医用加速器设有平行于多页准直器叶片的Y1铅门、Y2铅门，和垂直于叶片的X1铅门、X2铅门。

其中，所述X1铅门、X2铅门、Y1铅门与Y2铅门呈十字型排布。

其中，在S4、设定计划系统中的固定铅门射野的选项系统中在计划系统内的固定铅门射野的选项下载增加两个选项，两个选项分别为设置一和设置二。

其中，所述设置一具体为：在计划系统中优化时使得固定铅门射野的需要减小固定铅门野铅门到位误差对计划剂量影响处理的铅门边界下的叶片始终保持静止闭合，静止闭合的叶片遮挡此铅门一定距离，同时限制此铅门的位置坐标的可设置值，可设置值的下铅门的边界远离叶片缝隙的距离要大于铅门到位精度的误差值。