[发明专利]一种基于无机硅酸盐的憎水剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种基于无机硅酸盐的憎水剂，其特征在于，包括A组分和B组分，所述A组分按质量分数包括硅酸盐溶液65.5-77.5％、纳米硅溶胶20-30％、表面活性剂0.5-1％、络合剂1-1.5％和甲基硅醇钠1-2％，所述硅酸盐溶液为硅酸钠溶液与硅酸锂溶液的混合液；所述B组分为钙溶液，其浓度为20％。

2.根据权利要求1所述的基于无机硅酸盐的憎水剂，其特征在于，所述硅酸钠溶液与硅酸锂溶液的质量比为(0.8-1.2):1。

3.根据权利要求1所述的基于无机硅酸盐的憎水剂，其特征在于，所述硅酸钠溶液模数大于3，其20℃时的波美度为37-42。

4.根据权利要求1所述的基于无机硅酸盐的憎水剂，其特征在于，所述硅酸锂溶液模数大于等于4.8。

5.根据权利要求1所述的基于无机硅酸盐的憎水剂，其特征在于，所述纳米硅溶胶的平均粒径为30-100nm。

6.根据权利要求1所述的基于无机硅酸盐的憎水剂，其特征在于，所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠。

7.根据权利要求1所述的基于无机硅酸盐的憎水剂，其特征在于，所述络合剂为EDTA-Na、EDTA-2Na或EDTA-4Na。

8.根据权利要求1所述的基于无机硅酸盐的憎水剂，其特征在于，所述钙溶液为可溶性钙盐溶液，所述可溶性钙盐为草酸钙、亚硝酸钙、硝酸钙和醋酸钙中的一种或多种。

9.一种根据权利要求1至8任意一项所述的基于无机硅酸盐的憎水剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤，

S1)制备A组分：打开搅拌机，向搅拌机中按配比加入硅酸盐溶液、纳米硅溶胶、表面活性剂、络合剂和甲基硅醇钠，搅拌均匀，静置20-30min，即得A组分；

S2)制备B组分：向另一搅拌机中按照配比加入可溶性钙盐和水，搅拌均匀，静置20-30min，即得B组分；

S3)将A组分和B组分放量分装。

10.一种根据权利要求1至8任意一项所述的基于无机硅酸盐的憎水剂的应用，其特征在于，包括如下步骤，

S1)对应用的基面进行处理，清除表面的浮灰杂物；

S2)在基面上喷涂或涂刷B组分至饱和，自然干燥至基面表面没有明水，喷涂或涂刷第二遍B组分至饱和，待完全吸收后，再喷涂或涂刷一遍水至饱和；

S3)待基面表面没有明水时，喷涂或者涂刷A组分至饱和，自然干燥至基面表面没有明水，喷涂或者涂刷第二遍A组分至饱和，自然晾干养护48h以上。