[发明专利]抗蚀剂组成物及图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：

(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的树脂，

(B)通式(B-1)表示的光酸产生剂，及

(C)溶剂；

式中，W₁表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基；W₂表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基；Rf为上述通式表示的2价有机基团，A₁、A₂分别独立地表示氢原子或三氟甲基，B₁、B₂分别独立地表示氢原子、氟原子或三氟甲基，*表示和羰基氧基的原子键；m表示0～4，n表示0～1的整数；M⁺表示鎓阳离子。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组成物，其中，该通式(B-1)中的W₁为碳数6～12的含有内酯环结构的环状2价烃基。

3.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂组成物，其中，该通式(B-1)中的W₂为碳数7～14的不含杂原子的多环状1价烃基。

4.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂组成物，其中，该通式(B-1)中的Rf基团选自于下式(Rf-1)～(Rf-6)表示的基团；

*表示和羰基氧基的原子键。

5.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂组成物，其中，该(A)成分的树脂中，该具有芳香族取代基的重复单元中的1种为下式(A-1)表示的重复单元；

式中，R^A表示氢原子或甲基；R₆₁表示氢原子、或碳数1～10的亦可插入杂原子的直链状或分支状或环状的烃基；R₆₂表示亦可插入杂原子的碳数1～8的直链状或分支状或环状的烃基；t为1～3的整数，u为符合u≤5+2s-t的整数；s为0或1；L₁表示单键、或-C(＝O)O-、-C(＝O)NH-中的任一者。