[发明专利]一种预电离式高效等离子体合成射流激励器有效
申请号: | 202011215015.1 | 申请日: | 2020-11-04 |
公开(公告)号: | CN112333910B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 张志波;吴云;贾敏;宋慧敏;崔巍;苗慧丰 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军空军工程大学 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
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地址: | 710051 陕西省*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电离 高效 等离子体 合成 射流 激励 | ||
一种预电离式高效等离子体合成射流激励器(103),由带射流出口的激励器头部(101)和激励器底部(102)两部分连接而成,激励器底部(102)激励器腔体(201)、放电电极、介质阻挡绝缘层(203),激励器壳体(205);激励器头部(101)整体为开槽的矩形薄板,该矩形薄板的外围尺寸和激励器底部(102)开放面的外围尺寸相同,保证激励器头部(101)与激励器底部(102)边沿对齐,激励器头部(101)中央开有通孔作为射流孔。本发明的等离子体合成射流激励器通过集成介质阻挡放电模块,利用介质阻挡放电产生预电离,为空间提供大量的初始种子电子,降低击穿电压,增加放电间距,从而提升能量利用率,能够解决目前等离子体合成射流激励器使用过程中遇到的击穿电压高、放电间距小、效率低的问题。
技术领域
本发明涉及等离子体流动控制技术,具体涉及一种基于预电离技术的高效等离子合成射流激励器。
背景技术
等离子体流动控制技术具有结构简单、响应快、频带宽等显著优势,是一种具有较大应用潜力的流动控制技术。相比于介质阻挡放电型等离子体流动控制激励器,等离子合成射流激励器诱导产生速度高,能够弥补传统介质阻挡放电激励器的不足,有望在超声速流动控制领域发挥作用。
等离子体合成射流激励器是基于气体放电的激励器,其能量来源于气体放电。根据气体放电理论,放电的击穿电压与气体压力、电极间距直接相关。气体压力增加、电极间距增加,击穿电压增加。在大气压条件下,1mm间隙对应的击穿电压超过3kv。但是,现有研究已经表明增加电极间距能够有效提高能量利用率,是设计高效等离子体合成射流激励器的有效方法。但是,提高电极间距必然增加整个系统的电压,对系统的可靠绝缘带来安全隐患。为了增加电极间距,研究人员还提出了脉冲高压+低压直流的放电形式,通过两个电源的共同作用来提高激励器效率。但引入的两个电源系统必然导致整个系统复杂性的提升。
综上所述,目前等离子体合成射流激励器存在击穿电压高、电极间距小、放电系统复杂的问题。
发明内容
为提高等离子体合成射流激励器的能量利用率,针对现有激励器放电电压高、电极间距短的不足,本发明提出一种预电离式高效等离子体合成射流激励器103,由带射流出口的激励器头部101和激励器底部102两部分连接而成,所述两部分的连接部位保证密封,其特征在于:
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