[发明专利]CH3

说明书

本发明公开了CH₃NH₃PbBr₃钙钛矿量子点转水相的合成方法，该方法将液态有机硅源溶解于CH₃NH₃PbBr₃量子点甲苯溶液，盛放于第一容器；浓氨水盛放于第二容器；第一容器和第二容器内均放磁力搅拌转子；在磁力搅拌仪器上方设置一密闭空间，将第一容器和第二容器置于磁力搅拌仪器上并处于该密闭空间内；开启磁力搅拌仪，保持密闭空间内温度20℃~25℃，使反应1h~24h；对第一容器内溶液进行离心、沉淀，即得产物。本发明方法更温和，且可大大缩短合成时间，所得SiO₂涂层CH₃NH₃PbBr₃量子点稳定性优，可在乙醇相中稳定存在。

技术领域

本发明属于纳米材料技术领域，特别涉及CH₃NH₃PbBr₃钙钛矿量子点转水相的合成方法。

背景技术

CH₃NH₃PbBr₃量子点材料对水十分敏感，水会分解CH₃NH₃PbBr₃量子点，导致CH₃NH₃PbBr₃量子点荧光淬灭。传统的涂料SiO₂是一种具有吸引力的无机材料，可以保护核心材料由于水而解体。SiO₂涂层的量子点(例如CdSe-SiO₂，CdSe/ZnS-SiO₂，CdSe /CdS/ZnS-SiO₂等)被广泛研究，发现涂层后量子点的光稳定性得到了显著的改善。SiO₂的形成通常以正硅酸四乙酯(TEOS)或者正硅酸四甲酯(TMOS)为前体，在含有水、乙醇、(3-巯基丙基)三甲氧基硅烷(MPS)或氨(胺)的可控混合物中进行。由于CH₃NH₃PbBr₃量子点对于周围环境特别敏感，传统的SiO₂方法对CH₃NH₃PbBr₃量子点进行涂层大多数都失败了。因为水、醇、胺、甚至是(3-巯基丙基)三甲氧基硅烷(MPS) 的存在，都会导致CH₃NH₃PbBr₃量子点的猝灭。正硅酸四乙酯(TEOS)水解反应是水辅助的，也会导致CH₃NH₃PbBr₃量子点上无法形成SiO₂涂层，在SiO₂形成之前，CH₃NH₃PbBr₃量子点已经被水分解。开发一种不破坏CH₃NH₃PbBr₃量子点的SiO₂涂层方法是一项极具挑战性的任务。

CH₃NH₃PbBr₃量子点对环境与体系的要求极高，尤其是水分含量，对CH₃NH₃PbBr₃量子点的应用造成诸多限制。目前有在无水甲苯中进行SiO₂涂层CH₃NH₃PbBr₃量子点的方法，该方法增加了CH₃NH₃PbBr₃量子点的稳定性，但合成时间长，并且对试剂和实验条件要求极高。

发明内容

本发明目的是提供一种合成时间大大缩短且方法更温和的CH₃NH₃PbBr₃钙钛矿量子点转水相的合成方法。