[发明专利]一种用于钢管内壁的磁控溅射装置和溅射方法在审
| 申请号： | 202011164621.5 | 申请日： | 2020-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN112430801A | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 袁军涛;付安庆;李文升;尹成先;吕乃欣 | 申请（专利权）人： | 中国石油天然气集团有限公司;中国石油天然气集团公司管材研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/04 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 李红霖 |
| 地址： | 100007 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 钢管 内壁 磁控溅射 装置 溅射 方法 | ||
1.一种用于钢管内壁的磁控溅射装置，其特征在于，包括两个靶材支架(5)和两个钢管支架(6)，两个靶材支架(5)和两个钢管支架(6)设在真空室(1)内；
两个靶材支架(5)之间安装有中空靶材管(3)，所述中空靶材管(3)内设有可旋转的磁芯(4)；
两个钢管支架(6)之间用于安装钢管(2)，当钢管(2)位于钢管支架(6)之间时，中空靶材管(3)处于钢管(2)内部。
2.根据权利要求1所述的用于钢管内壁的磁控溅射装置，其特征在于，中空靶材管(3)的壁厚为3～6mm。
3.根据权利要求1或2所述的用于钢管内壁的磁控溅射装置，其特征在于，中空靶材管(3)外径小于钢管(2)内径，两者之差在40mm以上。
4.根据权利要求1所述的用于钢管内壁的磁控溅射装置，其特征在于，磁芯(4)外径小于中空靶材管(3)的内径。
5.根据权利要求1-4任一项所述的磁控溅射装置的溅射方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)安装工件和中空靶材管
将内部装有磁芯(4)的中空靶材管(3)安装在两个靶材支架(5)上，将钢管(2)安装在钢管支架(6)上；
所述中空靶材管(3)的材质为C-276、Alloy 825或304不锈钢；
2)进行沉积
溅射镀膜的条件为：真空室(1)内的气氛为氩气，真空度为5～15Pa，温度为200～400℃，电源偏压为80～150V，沉积时间为10～30h。
6.根据权利要求5所述的溅射方法，其特征在于，步骤1)中的中空靶材管(3)的内壁经以下处理：
经机械打磨后，再由丙酮和无水乙醇的清洗。
7.根据权利要求5所述的溅射方法，其特征在于，步骤1)和步骤2)之间还包括利用氩离子轰击钢管(2)内壁，以实现清洁内壁的目的。
8.根据权利要求5所述的溅射方法，其特征在于，在步骤2)中，磁芯(4)处于转动状态。
9.根据权利要求8所述的溅射方法，其特征在于，在步骤2)中，磁芯(4)的旋转速率为在300转/分钟以下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国石油天然气集团有限公司;中国石油天然气集团公司管材研究所，未经中国石油天然气集团有限公司;中国石油天然气集团公司管材研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
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