[发明专利]一种应用于薄砖抛光的抛光机

说明书

一种应用于薄砖抛光的抛光机，抛光机包括摆动机构和设置于摆动机构的多个磨头总成，磨头总成包括在驱动部的驱动下公转的公转盘、设置于公转盘的多个磨头机构以及多个气缸，磨头机构包括设置于公转盘上的磨头电机、在磨头电机的驱动下自转的磨盘及安装于磨盘的磨块；在进行抛光时，通过多个气缸将抛光气动压力范围控制在规定的范围内，从设置在每个磨盘中央的分出水口中分别向下喷出冷却液且磨头电机带动磨盘自转，控制相邻的两个磨头总成的公转盘反向旋转，摆动机构控制多个磨头总成按规定的抛光速度沿水平方向往复摆动。

技术领域

本发明属于陶瓷砖制造加工技术领域，具体地，涉及一种应用于薄砖抛光的抛光机。

背景技术

在岩板抛光工序中，传统抛光机磨盘采用公转磨盘连接6个凸轮摆动式磨块夹的模式，利用公转磨盘单方向旋转带动凸轮上的磨块夹（装有例如齿宽50mm×120mm长方形粒状弹性磨块）左右倾斜摆动来对砖面进行抛光。在这种抛光方式下，砖面同时承受三种压力：磨盘自重力、磨块摆动形成的接触力、磨盘转动使磨块在砖面上推磨产生的摩擦力。同时，因为磨块对砖面的接触面积小，所有对砖的压强增大。

然而，对于例如3mm以下的薄砖而言，由于砖的厚度很薄导致薄砖的强度远比厚砖的强度低，因此对薄砖抛光比对厚砖抛光的难度大得多。在对脆而轻的薄砖进行抛光时，上述那种传统的抛光机由于磨块摩擦力大而使薄砖容易随磨头单向旋转从而摆动，因此容易造成砖开裂和撞后崩角，并且由于其磨头是选用了低转速、高压力的运转模式，对砖坯的强度要求比较高，所以对薄砖进行抛光是无法实行的。

发明内容

发明要解决的问题：

鉴于上述问题，发明人锐意进取，率先发现可将双环流抛光机应用于该薄砖抛光领域，通过改进后可提供一种能在抑制薄砖开裂崩角的同时对薄砖进行快速且高切削量的双面抛光的抛光机。

解决问题的技术手段：

为解决上述问题，本发明提供一种应用于薄砖抛光的抛光机，所述抛光机包括摆动机构和设置于所述摆动机构的多个磨头总成，所述磨头总成包括在驱动部的驱动下公转的公转盘、设置于所述公转盘的多个磨头机构以及多个气缸，所述磨头机构包括设置于所述公转盘上的磨头电机、在所述磨头电机的驱动下自转的磨盘及安装于所述磨盘的磨块；在进行抛光时，通过所述多个气缸将抛光气动压力范围控制在规定的范围内，从设置在每个所述磨盘中央的分出水口中分别向下喷出冷却液且所述磨头电机带动所述磨盘自转，控制相邻的两个所述磨头总成的公转盘反向旋转，所述摆动机构控制所述多个磨头总成按规定的抛光速度沿水平方向往复摆动。

根据本发明，相邻两个磨头总成成对设置，且在工作时其公转盘以彼此相反的方向旋转，由此能抵消在抛光时作用于薄砖表面的摩擦力，使薄砖不会摆动，从而防止了崩角。另一方面，在抛光时薄砖承受的压力只有磨头的自重力，对薄砖的压强减少，减少了砖的开裂现象。

也可以是，本发明中，所述磨头总成包括：安装至所述磨头机架的支承座；设置于所述支承座的多个气缸；设置于所述支承座的驱动部；在所述驱动部的驱动下旋转的主轴，所述主轴内部中空且一端插入有入水管，另一端设置有出水法兰；位于所述出水法兰的上方的形式水平套设于所述主轴的公转盘；以及在所述公转盘的周向上等间隔地设置的多个磨头机构；所述磨头机构包括：设置于所述公转盘的上表面的连接轴套；与所述连接轴套密封连接且通过该连接轴套支持于所述公转盘的磨盘电机；与所述磨盘电机连接且插通所述公转盘的连接轴；设置于所述连接轴的梢端的磨盘；以及安装至所述磨盘的底部的磨块；所述出水法兰上设置有与所述磨头机构数量对应的出水孔，所述连接轴套上设置有分入水口，所述出水孔与分入水口通过冷却液管分别相连；所述连接轴的内部设置有冷却液流路；所述磨盘的中央形成有与所述冷却液流路连通的分出水口。由此能将流入主轴的冷却水分别供给至每个磨头机构，并从其磨盘的开口喷出，从而能冷却高速旋转的磨盘。而且，连接轴套延长了磨头电机到磨盘的距离，因此能防止运转时冷却水产生的水雾进入磨头电机。