[发明专利]一种基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法

权利要求书

1.一种基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法，其特征在于，所述检测方法包括以下步骤：

采集加料前烟丝样本的近红外光谱获得第一近红外光谱；

采集加料后烟丝样本的近红外光谱获得第二近红外光谱；

将所述第一近红外光谱预处理得到第一光谱矩阵，对所述第一光谱矩阵进行主成分分析获取主成分因子，根据主成分因子构建第一光谱投影矩阵；

将所述第二近红外光谱预处理得到第二光谱，并将所述第二光谱向所述第一光谱投影矩阵投影得到投影残差；

利用所述投影残差判断所述卷烟的加料均匀性。

2.如权利要求1所述的基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法，其特征在于，所述利用投影残差判断卷烟的加料均匀性包括以下步骤：

根据x＝||y_ly||₂计算所述投影残差的二范数，

其中，x表示投影残差的二范数，y_ly表示投影残差；

根据计算加料均匀系数，

其中，CU表示加料均匀系数，n表示采集的加料后烟丝样本的数量，x_i表示第i个加料后烟丝样本的投影残差的二范数，为n个加料后烟丝样本的投影残差二范数的平均值。

3.如权利要求2所述的基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法，其特征在于，根据所述加料均匀系数CU数值大小，判断比较加料后烟丝样本的加料均匀性。

4.如权利要求1所述的基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法，其特征在于，所述预处理采用标准正态变量变换法。

5.如权利要求1所述的基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法，其特征在于，所述对第一光谱矩阵进行主成分分析获取主成分因子，根据主成分因子构建第一光谱投影矩阵包括以下步骤：

对所述第一光谱矩阵进行主成分分析获取主成分数目，选取前q个主成分数对应的得分矩阵和载荷矩阵；

根据构建第三光谱矩阵，

其中，X_bnew表示第三光谱矩阵，P_q表示所述得分矩阵，L_q表示所述载荷矩阵；

根据构建所述第一光谱投影矩阵，

其中，H表示第一光谱投影矩阵，I表示单位矩阵，表示所述第三光谱矩阵X_bnew的广义逆矩阵。

6.如权利要求5所述的基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法，其特征在于，

根据y_ly＝Hy_s得到所述投影残差，

其中，y_ly表示所述投影残差，y_s表示所述第二光谱。

7.如权利要求1所述的基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法，其特征在于，

在所述采集加料前烟丝样本的近红外光谱之前还包括步骤：收集加料前的烟叶，将所述加料前的烟叶制备成加料前的烟丝；

在所述采集加料后烟丝样本的近红外光谱之前还包括步骤：按照预设时间间隔收集加料后的烟叶，所述预设时间间隔为4分钟，将所述加料后的烟叶制备成加料后的烟丝。

8.如权利要求1所述的基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法，其特征在于，所述加料后的烟丝样本的数量≥30。

9.如权利要求1所述的基于光谱投影残差的卷烟加料均匀性检测方法，其特征在于，所述加料前的烟丝和/或所述加料后的烟丝的宽度为1.0±0.1mm。