[发明专利]一种1T@2H-MoS2有效

专利信息
申请号: 202011111458.6 申请日: 2020-10-16
公开(公告)号: CN112121826B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 陈昌兆;申猛;李远志 申请(专利权)人: 安徽理工大学
主分类号: B01J27/051 分类号: B01J27/051;C02F1/30;C02F101/38
代理公司: 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 代理人: 叶濛濛
地址: 232001 安徽省淮*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 mos base sub
【说明书】:

发明公开一种1T@2H‑MoS2/SnS2光催化剂的制备方法,涉及光催化剂技术领域,本发明包括以下步骤:(1)混合配液;(2)水热合成;(3)分离洗涤,获得1T@2H‑MoS2/SnS2光催化剂。本发明还提供由上述制备方法制得的1T@2H‑MoS2/SnS2光催化剂及其应用。本发明的有益效果在于:本发明采用一步合成法制备产物,制备方法简单,制得的1T@2H‑MoS2/SnS2异质复合物具有良好的光催化降解性能,且具有良好的稳定性和再循环性。

技术领域

本发明涉及光催化剂技术领域,具体涉及一种1T@2H-MoS2/SnS2可见光响应光催化剂的制备方法、产物及应用。

背景技术

制备工艺简单,组分可控且可见光催化活性高的复合光催化剂的设计是半导体催化剂领域非常重要的研究方向。作为两种重要的金属硫化物半导体材料,MoS2和SnS2的带隙都落在可见光的范围(2eV左右),而且结构上还有一定的相似性,所以构建MoS2/SnS2异质结并开展相应的光催化研究十分有价值。

尽管存在几例关于MoS2/SnS2异质结催化性能的报道(Zhang J,Huang G,Zeng J,et al.SnS2 nanosheets coupled with 2D ultrathin MoS2 nanolayers as face-to-face 2D/2D heterojunction photocatalysts with excellent photocatalytic andphotoelectrochemical activities[J].Journal of Alloys and Compounds,2018,726-735,Xiao X,Wang Y,Xu X,et al.Preparation of the flower-like MoS2/SnS2heterojunction as an efficient electrocatalyst for hydrogen evolutionreaction[J].Molecular Catalysis,2020,487:110890.),但组成中基本限于单一的2H相MoS2。由于2H相导电性差且活性位点少,所以催化性能并不理想。

实际上,MoS2可以以稳定的半导体相(2H)和亚稳态的金属相(1T) 甚至1T-2H的混合相存在,1T-MoS2的最大优点是其良好的导电性,导电能力是2H-MoS2半导体相的107倍以上,另外一点优势就是暴露的边缘活性位点多。众所周知,对于半导体pn结光催化剂,界面处载流子分离的驱动力是内建电场,由于半导体本身的导电性差,在界面处的载流子分离和迁移并不理想。因此,许多异质结光催化剂特别添加了具有良好导电性的贵金属或乙炔黑纳米点作为桥接。构建由片状SnS2和1T@2H-MoS2混合相组成的复合结构具有实用价值,利用这两个相的协同作用来改善体系的光催化性能。在这样的混合体系中,2H-MoS2和SnS2结合形成半导体异质结,充当良好的光敏剂和催化剂,而1T-MoS2主要充当电子迁移的通道和共催化剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽理工大学,未经安徽理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011111458.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top