[发明专利]一种含纳米银的半水基型清洗剂

说明书

本发明提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂5‑10份，阴离子乳化剂5‑10份，纳米银溶液0.1‑1份，偏硅酸铝镁2‑5份，去离子水20‑30份，油性基质50‑80份，助剂0.5‑2份。所述有机硅乳化剂为聚二甲基硅氧烷PEG‑10/15交联聚合物。本发明的配方是一种半水基型清洗剂，具有较好的金属表面清洁效果，同时也具有较高的抑菌性能，且存储时间长，体系稳定。

技术领域

本发明涉及一种半水基型清洗剂，具体涉及一种含纳米银的半水基型清洗剂。

背景技术

金属表面的清洗通常使用清洁剂来完成，金属表面清洁的种类多样，但总结而言可分为有机溶剂清洁剂，水基清洁剂和半水基清洁剂。

有机溶剂清洁剂主要用来清洁重油污金属，通过有机溶剂的溶解性可达到强力清洁的效果，但通常有机溶剂的使用会带来很多环境压力。另一种是水基清洁剂，是以水、表面活性剂及助剂等成分组成的清洗剂。而半水基清洁剂是以水、表面活性剂、有机溶剂及助剂等成分组成的稳态或亚稳态的清洗剂。其中有机溶剂可以溶解污渍，表面活性剂起到乳化发泡的作用。半水基清洁剂的使用通常通过超声或者浸泡的方式进行清洗，可以有效清洁金属工件表面的油、蜡、脱模剂、胶类等物质。半水基清洁剂在常温下的挥发性较小，与水结合可形成乳白色的液体，因此，可以选择直接使用原液进行清洗，或者稀释后进行清洗。

某些特殊工件除了清洗之外，还有抗菌需求，已知的无机抗菌剂有纳米银，有机抗菌剂有壳聚糖，但纳米银在溶液中容易沉降，因此如何开发一种具有良好抗菌效果，但又体系稳定的半水基清洗剂是现阶段需要考虑的技术问题。

现有技术中已经开发出了一些清洁剂，例如中国专利申请CN201910479303.9中公开了一种抗菌型油烟清洁剂，通过添加纳米银溶液和壳聚糖提高了清洁剂的抗菌性能，但是该现有技术未考虑到纳米银的沉降问题，仅使用了本领域中常用的一些表面活性剂。例如中国专利申请CN201910257510.X中公开了一种抗菌清洁剂，含有纳米银粉体，但同样的，未考虑到纳米银的沉降问题。

有鉴于此，有必要开发一种稳定性良好的含银清洗剂。

发明内容

为了解决目前在半水基型清洗剂中提高抗菌作用的技术问题，以及提高半水基型清洗剂稳定性的问题，本发明提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂。

本发明所述一种含纳米银的半水基型清洗剂由以下技术方案加以实现：

一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂5-10份，阴离子乳化剂5-10份，纳米银溶液0.1-1份，偏硅酸铝镁2-5份，去离子水20-30份，油性基质50-80份。

根据本发明，所述有机硅乳化剂为聚二甲基硅氧烷PEG-10/15交联聚合物，典型的应用示例为购自日本信越公司的KSG-210乳化剂或SSG-210SP乳化剂，该乳化剂为信越公司独创的具有乳化能力的有机硅弹性体，可作为W/Si和W/O体系的乳化剂。独特的是，以该乳化剂可制备大粒径乳液，最大可至50μm。大粒径乳液更加有利于纳米银在液滴中的悬浮性能，避免微乳液或者细乳液体系中部分胶束破乳而形成团聚效应。

根据本发明，偏硅酸铝镁为增稠悬浮剂，用于增加体系的粘度，提高纳米银在体系中的悬浮性能。

根据本发明，所述油性基质选自聚二甲基硅氧烷或苯基硅油中的一种或多种。

根据本发明，所述阴离子乳化剂选自十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠中的一种或多种，上述阴离子乳化剂去污性能好，成本便宜，可以弥补有机硅乳化剂价格昂贵的缺陷。

作为本发明一个优选的实施方式，本发明还提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂5-10份，阴离子乳化剂5-10份，纳米银溶液0.1-1份，偏硅酸铝镁2-5份，去离子水20-30份，油性基质50-80份，助剂0.5-2份。