[发明专利]低温真空辐射温度参数校准系统及校准方法在审
申请号: | 202011055292.0 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN114353967A | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 邱超;孙红胜;王加朋;吴柯萱;翟思婷;郭亚玭;杜继东 | 申请(专利权)人: | 北京振兴计量测试研究所 |
主分类号: | G01J5/80 | 分类号: | G01J5/80;G01J5/53 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100074 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 低温 真空 辐射 温度 参数 校准 系统 方法 | ||
1.一种低温真空辐射温度参数校准系统,其特征在于,包括:
真空冷舱,用于模拟低温真空环境;
红外温差辐射发射装置,其设于所述真空冷舱内,用于发出具有设定温差的第一红外辐射;
准直光学装置,其设于所述真空冷舱内,用于接收所述第一红外辐射并将所述第一红外辐射准直处理后发射至目标红外载荷,以供所述目标红外载荷进行噪声等效温差校准和/或最小可分辨温差校准和/或最小可探测温差校准。
2.根据权利要求1所述低温真空辐射温度参数校准系统,其特征在于,所述低温真空辐射温度参数校准系统还包括:
标准黑体,其设于所述真空冷舱内,用于发出温度稳定的第二红外辐射,以供所述目标红外载荷进行辐射温度、及温度均匀性校准。
3.根据权利要求1所述低温真空辐射温度参数校准系统,其特征在于,所述红外温差辐射发射装置包括:
靶标组件,其具有若干透光靶标;
背景黑体,其对应所述透光靶标的反射面设置,用于向所述透光靶标发出温度稳定的第三红外辐射;
目标黑体,其对应所述透光靶标的背面设置,用于向所述透光靶标发出温度稳定的第四红外辐射;
其中,所述第三红外辐射经所述透光靶标的反射面反射,所述第四红外辐射穿过所述透光靶标,与所述第三红外辐射结合形成所述具有设定温差的第一红外辐射。
4.根据权利要求3所述低温真空辐射温度参数校准系统,其特征在于,若干所述透光靶标至少包括方形靶、圆形靶、四杆靶。
5.根据权利要求1所述低温真空辐射温度参数校准系统,其特征在于,所述准直光学装置包括:
低温平行光管,其对应所述红外温差辐射发射装置的输出端设置,所述第一红外辐射从该低温平行光管的焦面处射入后从该低温平行光管的出瞳处射出。
6.根据权利要求5所述低温真空辐射温度参数校准系统,其特征在于,所述准直光学装置还包括:
二维摆镜,其分别对应所述准直光学装置、目标红外载荷设置,用于将所述准直光学装置准直处理后发射出的所述第一红外辐射扫描在所述目标红外载荷上;
真空低温转台,所述二维摆镜活动安装在该真空低温转台上,用于驱使所述二维摆镜转动。
7.一种低温真空辐射温度参数校准方法,其特征在于,包括:
获取辐射温度目标值、辐射温度校准值,所述辐射温度目标值为标准黑体发出的第一红外辐射的辐射温度,所述辐射温度校准值为目标红外载荷观察所述第一红外辐射所测得的辐射温度;
比对所述辐射温度目标值、辐射温度校准值;
校准所述目标红外载荷的辐射温度;
获取若干像元辐射温度,若干所述像元辐射温度为所述目标红外载荷的不同像元所测得的辐射温度;
获取标准偏差目标值、标准偏差校准值,所述标准偏差目标值为所述标准偏差校准值校准的目标值,所述标准偏差校准值为若干所述像元辐射温度的标准偏差;
比对所述标准偏差目标值、标准偏差校准值;
校准所述目标红外载荷的辐射温度均匀性。
8.根据权利要求7所述低温真空辐射温度参数校准方法,其特征在于,还包括:
获取噪声等效温差目标值、噪声等效温差校准值,所述噪声等效温差目标值为所述目标红外载荷的噪声等效温差校准的目标值,所述噪声等效温差校准值为所述目标红外载荷观察方形靶或圆形靶时,其输出信号的信噪比为1时,目标黑体输出的第二红外辐射及背景黑体输出的第三红外辐射之间的等效温差;
比对所述噪声等效温差校准值、噪声等效温差目标值;
校准所述目标红外载荷的噪声等效温差。
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