[发明专利]一种低温氮气冷却聚焦磨料气射流加工机床有效
申请号: | 202011054614.X | 申请日: | 2020-09-29 |
公开(公告)号: | CN112157597B | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 刘旭;孙玉利;孙文婧;张桂冠 | 申请(专利权)人: | 南京航太机电有限公司;南京航空航天大学 |
主分类号: | B24C7/00 | 分类号: | B24C7/00;B24C9/00 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 瞿网兰 |
地址: | 211100 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低温 氮气 冷却 聚焦 磨料 射流 加工 机床 | ||
1.一种低温氮气冷却聚焦磨料气射流加工机床,其特征是它包括:
一冷却射流发生部分:该冷却射流发生部分主要包括储气罐(3)、自增压式液氮罐(6)、液氮安全阀(7)、流量控制器(8)、泄压阀(9)、气化储气罐(11)、压力调节器(12)和数字压力计(13),液氮安全阀(7)一端与自增压式液氮罐(6)相连,另一端通过液氮液位监测装置(10)与气化储气罐(11)的一端相连,储气罐(3)的一个出气端通过流量控制器(8)与气化储气罐(11)相连,所述的泄压阀(9)安装在气化储气罐(11)上,自增压式液氮罐(6)中的液氮通过液氮安全阀(7)流入气化储气罐(11),在气化储气罐(11)中气化成低温氮气再流入与气化储气罐(11)相连的两个压力调节器(12)的进气口,每个压力调节器(12)的出气端分别连接两个数字压力计(13),数字压力计(13)的另一端连接聚焦射流喷嘴(17),到达聚焦射流喷嘴(17)的低温氮气形成两股稳定的聚焦冷却射流;
一聚焦加工部分:该聚焦加工部分主要包括数控工作平台(15)、加工室(14)、磨料射流喷嘴(16)、聚焦射流喷嘴(17)、喷嘴固定盘(18)和线性滑轨(19),数控工作平台(15)、磨料射流喷嘴(16)和聚焦射流喷嘴(17)均安装在加工室(14)中的喷嘴固定盘(18)上,工件固定在数控工作平台(15)的工作台上,磨料射流喷嘴(16)与喷砂机(20)相连,聚焦射流喷嘴(17)由气化储气罐(11)供气,磨料射流喷嘴(16)固定在线性滑轨(19)上,聚焦射流喷嘴(17)能在线性滑轨(19)上移动并定位,通过控制聚焦射流喷嘴(17)在线性滑轨(19)上的位置从而控制聚焦及加工距离;从聚焦射流喷嘴(17)中射出的低温氮气能对磨料射流喷嘴(16)中射出的磨料射流进行冷却和聚焦,以实现对数控工作平台(15)上工件的高效加工;
一磨料气射流发生部分:该磨料气射流发生部分主要包括空压机(1)、空气干燥机(2)、储气罐(3)和喷砂机(20),空压机(1)产生的压力空气进入空气干燥机(2)干燥后送入储气罐(3),储气罐(3)一路供喷砂机(20)使用,喷砂机(20)将干燥的空气与磨料混合后送入磨料射流喷嘴(16)中,用于产生稳定、均匀的磨料射流,储气罐(3)的另一路通过管道与流量控制器(8)相连,通过流量控制器(8)的控制输入到气化储气罐(11)以控制氮气的气化速度和温度;
一磨料回收部分:该磨料回收部分主要包括吸尘器(4)和收集漏斗(5),用于回收磨料和改善工作环境;收集漏斗(5)安装在加工室(14)的下部,用于在加工室(14)打开时收集加工后的磨料和切屑,收集漏斗(5)的下部通过管道与吸尘器(4)相连;
一控制器部分:该控制器部分主要包括PC控制平台(21)和液氮液位监测装置(10),用于实现数控工作平台(15)控制和气化储气罐(11)的自动补液。
2.根据权利要求1所述的低温氮气冷却聚焦磨料气射流加工机床,其特征在于所述的气化储气罐(11)利用储气罐(3)里的常温气体流量控制液氮气化速率,泄压阀(9)用于防止高压,可输出的低温氮气的温度约为-190℃,并使聚焦射流稳定、均匀、可控。
3.根据权利要求1所述的低温氮气冷却聚焦磨料气射流加工机床,其特征在于所述的喷嘴固定盘(18)可调节每个聚焦射流喷嘴(17)的聚焦射流角度θ的范围为10°~85°,聚焦射流喷嘴(17)关于磨料射流喷嘴(16)对称布置,磨料射流喷嘴(16)位于中轴线上,线性滑轨(19)固定安装在喷嘴固定盘(18)上,精确调节聚焦射流喷嘴(17)在线性滑轨(19)的位置能调节聚焦距离,大幅度的加工参数调整由数控工作平台(15)实现。
4.根据权利要求1所述的低温氮气冷却聚焦磨料气射流加工机床,其特征在于所述的气化储气罐(11)的换热管里的空气经过换热后进入加工室,能够降低加工室温度,并能提供干燥空气,防止空气内的水汽凝结堵塞喷嘴。
5.根据权利要求1所述的低温氮气冷却聚焦磨料气射流加工机床,其特征在于所述的聚焦射流喷嘴(17)连接的是液氮真空管,以防止低温液氮输送过程中的温升,靠近聚焦射流喷嘴(17)端的两个数字压力计(13)用于监测接近聚焦射流喷嘴(17)处的聚焦压力值,使两侧低温氮气射流严格相同,保证良好的冷却聚焦效果。
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