[发明专利]基于光纤的高通量超分辨焦斑生成装置有效
| 申请号: | 202010863052.7 | 申请日: | 2020-08-25 |
| 公开(公告)号: | CN112045303B | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
| 发明(设计)人: | 匡翠方;朱大钊;丁晨良;郝翔;刘旭 | 申请(专利权)人: | 之江实验室 |
| 主分类号: | B23K26/073 | 分类号: | B23K26/073;B23K26/06 |
| 代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 邱启旺 |
| 地址: | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 光纤 通量 分辨 生成 装置 | ||
1.一种基于光纤的高通量超分辨焦斑生成装置,其特征在于,包括抑制光激光器阵列、抑制路涡旋光纤阵列、第一微透镜阵列、第一多通道声光调制器、第一半波片、第一四分之一波片、第二微透镜阵列、第一小孔阵列、第一透镜、第二透镜、反射镜、激发光激光器阵列、激发路光纤阵列、第三微透镜阵列、第二多通道声光调制器、第二半波片、第二四分之一波片、第四微透镜阵列、第二小孔阵列、第三透镜、第四透镜、二色镜、第五透镜、第六透镜、场镜和物镜;抑制光激光器阵列发出的抑制光光束阵列依次经过抑制路涡旋光纤阵列、第一微透镜阵列、第一多通道声光调制器、第一半波片、第一四分之一波片、第二微透镜阵列、第一小孔阵列、第一透镜、第二透镜、反射镜后到达二色镜;二色镜对抑制光光束阵列透射,抑制光光束阵列再依次经过第五透镜、第六透镜、场镜和物镜后,在物镜焦面处生成暗斑阵列;激发光激光器阵列发出的激发光光束阵列依次经过激发路光纤阵列、第三微透镜阵列、第二多通道声光调制器、第二半波片、第二四分之一波片、第四微透镜阵列、第二小孔阵列、第三透镜、第四透镜后到达二色镜;二色镜对激发光光束阵列反射,激发光光束阵列再依次经过第五透镜、第六透镜、场镜和物镜后,在物镜焦面处生成实心光斑阵列;暗斑阵列与实光斑阵列中光斑数量相同且位置一一对应,暗斑抑制实心光斑作用区域产生高通量超分辨焦斑阵列。
2.如权利要求1所述基于光纤的高通量超分辨焦斑生成装置,其特征在于,所述抑制光激光器阵列产生的各光束、抑制路涡旋光纤阵列中的各光纤出口、第一微透镜阵列中的各微透镜、第一多通道声光调制器中的各通道、第二微透镜阵列中的各微透镜、第一小孔阵列中的各小孔、激发光激光器阵列产生的各光束、激发路光纤阵列中的各光纤出口、第三微透镜阵列中的各微透镜、第二多通道声光调制器中的各通道、第四微透镜阵列中的各微透镜和第二小孔阵列中的各小孔一一对应且同分布。
3.如权利要求1所述基于光纤的高通量超分辨焦斑生成装置,其特征在于,所述实心光斑阵列中的光斑与暗斑阵列中的暗斑一一对应且中心重合。
4.如权利要求1所述基于光纤的高通量超分辨焦斑生成装置,其特征在于,所述第一多通道声光调制器和第二多通道声光调制器对进入的光束阵列通过各光束的相应通道进行光束能量的独立调控。
5.如权利要求1所述基于光纤的高通量超分辨焦斑生成装置,其特征在于,所述激发路光纤阵列为激发路保偏光纤阵列。
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