[发明专利]一种电平位移电路在审
申请号: | 202010839052.3 | 申请日: | 2020-08-19 |
公开(公告)号: | CN112118003A | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 涂才根;张胜;谭在超;罗寅;丁国华 | 申请(专利权)人: | 苏州锴威特半导体股份有限公司 |
主分类号: | H03K19/0185 | 分类号: | H03K19/0185 |
代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人: | 杜静静 |
地址: | 215600 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电平 位移 电路 | ||
本发明涉及一种电平位移电路,所述电路包括VDD为芯片电源,GND为芯片地;HB为半桥高边侧浮动电源;HS为半桥高边侧浮动地;N1、N2为承受半桥高压的MOS;电阻R1、R2为产生电压差的两个电阻;三极管Q1、Q2、Q3、Q4组成两组电流镜;三极管Q5为一路电流源,分别为Q1支路或Q3支路提供偏置电流,偏置电流的大小由偏置电压Vb和电阻R3或R4决定;P1、P2为控制两组电流镜是否产生电流的开关管,分别由脉冲信号pulse1、pulse2控制;P3、P4为采样开关管;R5、R6电阻及N3为RS锁存器产生初始状态;PulseGen模块接收DRV_IN信号,产生两路低窄脉冲信号pulse1和pulse2,RS锁存器产生输出信号DRV_OUT,该信号控制后续的驱动电路;方案新颖、简洁,可将电路功耗限制地极低,功耗值精确。
技术领域
本发明涉及一种电平位移电路,属于电源管理技术领域。
背景技术
在高压半桥驱动电路中,需要产生两路驱动信号,一路是高边驱动,一路是低边驱动,而高边驱动信号的产生需要专门的电平位移电路进行电压域转换。
在应用中,高压半桥应用从几十伏到几百伏不等,驱动芯片内部需要集成能耐该电压的器件进行电压域转换。如图1所示,为现有技术的电平转换电路拓扑结构。VDD为芯片的电源电压;GND为芯片地,HB为半桥高压侧浮动电源电压;HS为半桥高压侧浮动地;R1、R2为电阻;N1、N2为高耐压MOS,确保能承受半桥高压侧电源电压,PulseGen为脉冲产生模块,根据驱动信号DRV_IN变高或变低,选择产生两路脉冲信号,控制N1或N2;RS锁存器为与非门型锁存器,输出驱动信号DRV_OUT,控制后续的驱动电路。
工作原理:DRV_IN信号变高,PulseGen产生pulse1窄脉冲,控制N1短暂导通,对于RS锁存器,S为高,R为低,因此输出DRV_OUT变高,即使窄脉冲消失后,RS锁存器处于锁存状态,DRV_OUT一直保持为高;DRV_IN信号变低,Pulse Gen产生pulse2窄脉冲,控制N2短暂导通,对于RS锁存器,S为低,R为高,DRV_OUT变低,即使窄脉冲消失后,DRV_OUT一直保持为低。相关波形如图2所示。
该电平位移结构,利用窄脉冲,减小N1、N2的导通时间,以此降低电阻R1、R2上的功耗,但该结构的难点在于N1或N2导通时,不能直接将R1或R2下端的电压直接拉到0V,否则会导致后面RS锁存器的MOS管发生栅氧击穿,且同时在R1或R2上的功耗还是偏大,且不易控制;如果R1或R2的下端电压下拉过少,后面的RS锁存器又存在不易翻转的情况,从而DRV_OUT信号不能正常输出。因此,迫切的需要一种新的方案解决上述技术问题。
发明内容
本发明正是针对现有技术中存在的问题,提供一种电平位移电路,该技术方案可以精准控制R1或R2下端电压的偏移量,既能保证后续的RS锁存器进行翻转,又能保证电阻上产生的功耗进一步降低。
为了实现上述目的,本发明的技术方案如下,一种电平位移电路,所述电路包括VDD为芯片电源,通常10~30V;GND为芯片地;HB为半桥高边侧浮动电源,通常几十伏至几百伏;HS为半桥高边侧浮动地;N1、N2为承受半桥高压的MOS;电阻R1、R2为产生电压差的两个电阻;三极管Q1、Q2、Q3、Q4组成两组电流镜;三极管Q5为一路电流源,分别为Q1支路或Q3支路提供偏置电流,偏置电流的大小由偏置电压Vb和电阻R3或R4决定;P1、P2为控制两组电流镜是否产生电流的开关管,分别由脉冲信号pulse1、pulse2控制;P3、P4为采样开关管;R5、R6电阻及N3为RS锁存器产生初始状态;PulseGen模块接收DRV_IN信号,产生两路低窄脉冲信号pulse1和pulse2,窄脉冲信号的波形在模块内示意;RS锁存器产生输出信号DRV_OUT,该信号控制后续的驱动电路。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州锴威特半导体股份有限公司,未经苏州锴威特半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010839052.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。