[发明专利]一种光功率调节方法、装置、存储介质及ONU设备在审

专利信息
申请号: 202010813809.1 申请日: 2020-08-13
公开(公告)号: CN112054850A 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 王嘉伟 申请(专利权)人: 深圳市普威技术有限公司
主分类号: H04B10/564 分类号: H04B10/564;H04B10/079
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 麦小婵;郝传鑫
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 功率 调节 方法 装置 存储 介质 onu 设备
【说明书】:

发明公开了一种光功率调节方法,包括:检测第一光功率及第一电流;根据所述第一电流控制所述第一光功率进行对应的调节,以得到第二光功率;根据当前温度、当前消光比及所述第二光功率在预设的光功率与调制电流关系中查找对应的第一调制电流;控制所述第一调制电流保持不变,并调节偏置电流,直至当前光功率与所述第二光功率相等,若检测的当前电流值满足预设的设备安全运行条件,则发射光功率为所述第二光功率。本发明实施例还公开了一种光功率调节装置、存储介质及ONU设备,能在设备温度升高的情况下,保证ONU设备的安全运行,同时能够满足光功率和消光比的要求。

技术领域

本发明涉及通信技术领域,尤其涉及一种光功率调节方法、装置、存储介质及ONU设备。

背景技术

目前,光模块的光电二极管(PD)检测到半导体激光器(LD)发出的光,将光信号转换MPD电流并提供给光芯片,光模块的光芯片通过改变半导体激光器的偏置电流来控制维持背光电流(即MPD电流)的大小,从而维持光功率的恒定。

但是,在现有技术中,对于同一目标光功率,高温时需要的半导体激光器的电流要大于的常温,而电流过大可能会导致两个问题:一是电流较大时ONU设备的突发时间会上升(协议要求GPON ONU的上升时间小于12.8ns),二是电流太大会影响到TOSA的使用寿命,甚至破坏TOSA。因此,如何调节半导体激光器的电流,既能满足光功率和消光比的要求,又能不损坏ONU设备,是当前面对的主要问题。

发明内容

本发明实施例提供一种光功率调节方法、装置、存储介质及ONU设备,能在设备温度升高的情况下,保证ONU设备的安全运行,同时能够满足光功率和消光比的要求。

本发明一实施例提供一种光功率调节方法,包括:

控制光模块检测第一光功率及第一电流;

根据所述第一电流控制所述第一光功率进行对应的调节,以得到第二光功率;

根据当前温度、当前消光比及所述第二光功率在预设的光功率与调制电流关系中查找对应的第一调制电流;

控制所述第一调制电流保持不变,并调节偏置电流,直至当前光功率与所述第二光功率相等,控制所述第一调制电流保持不变,并调节偏置电流,直至当前光功率与所述第二光功率相等,若检测的当前电流值满足预设的设备安全运行条件,则发射光功率为所述第二光功率。

作为上述方案的改进,所述根据所述第一电流值控制所述第一光功率进行对应的调节,以得到第二光功率,具体包括:

判断所述第一电流值是否满足预设的设备安全运行条件;

响应于判断结果为不满足预设的设备安全运行条件,则对应的调节为第二光功率。

作为上述方案的改进,所述方法还包括:响应于判断结果为满足预设的设备安全运行条件,则所述发射光功率为所述第一光功率。

作为上述方案的改进,在所述响应于判断结果为不满足预设的设备安全运行条件,则对应的调节为第二光功率之后,还包括:

判断所述第二光功率是否大于预设的第一光功率阈值;其中,所述第一光功率阈值包括:光功率偏移量以及最低光功率;

响应于判断结果为大于预设的第一光功率阈值,则允许所述第一光功率调节为所述第二光功率;

响应于判断结果为小于预设的第一光功率阈值,则结束光功率调节。

作为上述方案的改进,所述预设的设备安全运行条件,具体为:

小于满足设备突发时间要求时的最大电流。

作为上述方案的改进,所述方法通过以下步骤获取预设的光功率与调制电流对应关系,具体包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市普威技术有限公司,未经深圳市普威技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010813809.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top