[发明专利]一种消除玻璃面研磨痕迹的研磨垫处理方法

说明书

本发明公开一种消除玻璃面研磨痕迹的研磨垫处理方法，先研磨盘固定于研磨盘支架下方,然后将研磨垫的非研磨面粘贴５～10mm厚的高密度海绵层，高密度海绵层的密度为0.3g／cm³士0.08，吸水率小于20％土10；再将高密度海绵层粘贴在研磨盘底面，使研磨垫的研磨面朝下；研磨盘带动研磨垫旋转下压至待研磨玻璃表面，高密度海绵层作为缓冲层，在研磨垫下压过程中对下压压力逐渐释放；该方法对研磨垫进行优化处理，能够减缓研磨头下压和启动过程研磨垫对玻璃表面的冲击造成的研磨缺陷，提高研磨效果。

技术领域

本发明涉及玻璃面研磨技术领域，具体是一种消除玻璃面研磨痕迹的研磨垫处理方法。

背景技术

传统的玻璃面研磨技术研磨垫都比玻璃要大，可以全覆盖玻璃表面，在下压和启动的过程中，研磨垫边缘不接触玻璃表面和玻璃边缘。由于目前8.5代基板玻璃规格很大,最大基板尺寸2250mmx2600mm，要做到全覆盖研磨头直径不小于3000mm，客观上很难实现。因此现选用多组并列式研磨头的工艺方案，研磨头面积相对玻璃面积覆盖率约为50-70%，研磨头未做到全覆盖玻璃表面。

玻璃的面研磨需要使用研磨垫对基板玻璃的表面进行研磨，采用多组并列式研磨头，多组并列式研磨头固定在研磨头支架上，研磨头支架在X轴和Y轴两个水平方向可平行移动。研磨头Z轴方向采用电液比例阀控制升降缸上下移动。研磨头底部采用研磨盘支架，研磨盘使用紧固螺丝固定在研磨盘支架上，研磨垫使用双面胶粘贴在研磨盘上。玻璃基板使用吸附垫吸附固定在托盘上，处于下方相对静止状态。

在研磨头下压和启动过程中，研磨垫与玻璃接触面由于扭矩的变化，可能产生两种研磨缺陷：

1、研磨垫边缘可能影响玻璃表面研磨的均一性产生弧形研磨痕。这种痕迹的指标性特征是玻璃微波纹度W值较大，在液晶面板成合后形成彩虹不良。

2、同时对玻璃边缘造成冲击产生掉片，掉边在玻璃和研磨垫之间产生硬划伤，这种划伤的指标性特征是在射灯使用投射光法检验可见。在液晶面板成合时形成断路。

综上所述传统的面研磨由于研磨头可以做到对玻璃表面全覆盖，所以不产生以上两种研磨缺陷。而现有的多组并列式研磨头的工艺方案，研磨头面积相对玻璃面积覆盖率约为50-70%，研磨头未做到全覆盖玻璃表面，研磨头在下压和启动过程中可能产生上述两种研磨缺陷。目前仅靠吸附垫的缓冲，不足以消除下压和启动的冲击产生以上两种缺陷出现。

发明内容

本发明的目的在于提供一种消除玻璃面研磨痕迹的研磨垫处理方法，该方法对研磨垫进行优化处理，能够减缓研磨头下压和启动过程研磨垫对玻璃表面的冲击造成的研磨缺陷，优化研磨效果。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种消除玻璃面研磨痕迹的研磨垫处理方法，先研磨盘固定于研磨盘支架下方, 然后将研磨垫的非研磨面粘贴５～10mm厚的高密度海绵层，高密度海绵的密度为0.3g／cm³士0.08，吸水率小于20％土10；再将高密度海绵层粘贴在研磨盘底面，使研磨垫的研磨面朝下；

研磨盘带动研磨垫旋转下压至待研磨玻璃表面，高密度海绵层作为缓冲层，在研磨垫下压过程中对下压压力逐渐释放。

本发明的有益效果是，在研磨垫与研磨盘之间设置具有特定要求的高密度海绵，研磨盘带动研磨垫旋转下压至待研磨玻璃表面，高密度海绵层作为缓冲层，在研磨垫下压过程中对下压压力逐渐释放；从而在研磨头启动和下压过程中减少研磨垫对玻璃表面和边缘的过度冲击，降低研磨缺陷的产生，有效改善面研磨后玻璃的表面的质量。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：

图1是本发明的示意图；

图2是采用传统方法研磨的玻璃缺陷位置分布图；