[发明专利]电子质控卡在审

专利信息
申请号: 202010800119.2 申请日: 2020-08-11
公开(公告)号: CN111812074A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 于鸫;刘丽萍;叶添烙;陈毓欣 申请(专利权)人: 广东唯实生物技术有限公司
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G01N21/01;G01J3/44;G01J3/12;G01N33/558;G01N33/58
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 李翠
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子 质控卡
【说明书】:

本申请提供了一种电子质控卡,涉及免疫层析检测领域,包括:光学模块,包括第一光源部和第二光源部;容纳构件,用于限定光学模块;容纳构件形成有非狭缝的检测窗,第一光源部发射的光和第二光源部发射的光均经由检测窗射出到外部环境。本申请提供的电子质控卡,采用了非狭缝设计,消除了狭缝对获得的光信号产生的干扰,使检测信号更真实的模拟出荧光试纸条的峰型图,一定程度上解决了现有技术中荧光分子(或荧光量子点)标记的试剂卡的荧光物质容易淬灭,信号值会下降,且试纸条受温湿度影响较大,信号值不稳定以及现有的电子的质控卡,存在峰型失真的技术问题。

技术领域

本申请涉及免疫层析检测领域,尤其是涉及一种电子质控卡。

背景技术

现有技术通常采用荧光分子(或荧光量子点)标记的试剂卡作为校准卡,由于荧光分子或量子点荧光受周围环境影响较大,稳定性问题难以保证,即荧光物质容易淬灭,信号值会下降,且试纸条受温湿度影响较大,信号值不稳定,由此导致很难制定标准和长期进行定标溯源。

虽然现有技术中也出现了电子的质控卡,但是存在峰型失真而导致的质量不稳定的问题。

发明内容

有鉴于此,本申请提供一种电子质控卡,目的在于,一定程度上解决以上技术问题。

本申请提供一种电子质控卡,所述电子质控卡包括:

光学模块,包括第一光源部和第二光源部;

容纳构件,用于限定所述光学模块;

所述容纳构件形成有非狭缝的检测窗,所述第一光源部发射的光和所述第二光源部发射的光均经由所述检测窗射出到外部环境。

优选地,所述检测窗形成为如下构造:

所述检测窗在所述第一光源部或者所述第二光源部发射的光的照射方向上的投影中彼此距离最远的两个点之间的距离大于所述第一光源发出的光的波长且大于所述第二光源发出的光的波长。

优选地,所述光学模块包括电阻部,所述电阻部在所述光源模块的回路中的阻值被设计为使得由所述第一光源部发出的光和由所述第二光源部发出的光以不发生干扰的方式射入待检测仪器。

优选地,所述光学模块还包括:

电源,用于为所述第一光源部和所述第二光源部供电;

第一组支路和第二组支路,并联于所述电源,所述第一光源部与所述电阻部的第一电阻部位于所述第一组支路,所述第二光源部与所述电阻部的第二电阻部位于所述第二组支路。

优选地,所述第一组支路包括一个第一分支路或者多个彼此并联的第一分支路,所述第一分支路包括所述第一电阻部的第一电阻构件,所述第一光源部包括第一发光构件,所述第一发光构件与所述第一电阻构件串联;所述第二组支路包括一个第二分支路或者多个彼此并联的第二分支路,所述第二分支路包括所述第二电阻部的第二电阻构件,所述第二光源部包括第二发光构件,所述第二发光构件与所述第二电阻构件串联;

所述第一电阻构件的范围在22kΩ至220kΩ,并且所述第二电阻构件的范围在22kΩ至220kΩ。

优选地,所述电子质控卡还包括:印刷电路板,所述电源、所述第一光源部、所述第一电阻构件、所述第二光源部和所述第二电阻构件均以可拆卸的方式集成于所述印刷电路板。

优选地,所述电子质控卡还包括开关构件,用于控制所述电源的开闭,所述开关构件的至少部分暴露于所述容纳构件的外侧部,所述容纳构件形成为包覆于所述光源模块的壳构件。

优选地,所述壳构件包括彼此接合的第一壳体和第二壳体,所述第一壳体形成有所述检测窗和开关缺口,所述开关构件的至少部分暴露于所述开关缺口,能够经由所述检测窗观察到所述第一光源和所述第二光源。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东唯实生物技术有限公司,未经广东唯实生物技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010800119.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top