[发明专利]一种气体离化冷却机构在审
申请号: | 202010691115.5 | 申请日: | 2020-07-17 |
公开(公告)号: | CN111607764A | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 王俊锋;袁明;王锋 | 申请(专利权)人: | 广东鼎泰机器人科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人: | 袁敏怡 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 气体 冷却 机构 | ||
本发明涉及涂层设备技术领域,尤其是指一种气体离化冷却机构,其包括装配基体、正极载件、负极载件、气腔基件和冷却组件,冷却组件安装于负极载件的下部,正极载件和负极载件之间产生电场,气腔基件设置于正极载件与负极载件之间,以使气腔基件位于所述电场中,气腔基件设有离子发生腔以及与离子发生腔连通的多个离子发射通孔。本机构能够产生大量的离子,作为溅射镀膜过程的轰击粒子,在气体放电的过程中负极载件处于超级高温状态,对冷却组件导入流动的冷却液,以对负极载件和气腔基件进行有效、快速的降温,延长各个部件的使用寿命。
技术领域
本发明涉及涂层设备技术领域,尤其是指一种气体离化冷却机构。
背景技术
溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面,把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离,其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体,击出阴极靶体原子或分子,飞向被镀基体表面沉积成薄膜。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶),使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。
用于轰击靶的溅射粒子可以是电子,离子或中性粒子,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。但是,在产生大量离子的过程中,整个离子产生机构处于高温状态,容易被烧损,零部件的使用寿命短,无法满足现代化生产的需求。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种气体离化冷却机构,能够产生大量的离子,作为溅射镀膜过程的轰击粒子,还能够实现冷却效果,延长各个部件的使用寿命。
为了解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:
一种气体离化冷却机构,其包括装配基体、正极载件、负极载件、气腔基件和冷却组件,负极载件安装于装配基体的上部,所述冷却组件安装于负极载件的下部,以用于对负极载件冷却,正极载件和负极载件之间产生电场,气腔基件设置于正极载件与负极载件之间,以使气腔基件位于所述电场中,所述气腔基件设有离子发生腔以及与离子发生腔连通的多个离子发射通孔。
进一步地,所述冷却组件包括冷却托件、进液咀和出液咀,冷却托件安装于负极载件的下部,冷却托件与负极载件围设形成冷却液腔,进液咀和出液咀分别安装于冷却托件的两端,进液咀和出液咀与冷却液腔连通。
进一步地,所述冷却托件和负极载件之间安装有第一密封圈,以用于密封冷却托件和负极载件之间的间隙。
进一步地,所述负极载件安装有充气咀,所述充气咀与离子发生腔连通。
进一步地,所述正极载件安装有电极接线柱,以用于接入电源正极,所述负极载件接入电源负极,以用于对离子发生腔提供电场。
进一步地,所述气体离化冷却机构还包括冷却围板,冷却围板中部设有安装孔,以用于安装气腔基件。
进一步地,所述冷却围板的下部设有注液棒,注液棒设有进液通道和出液通道,冷却围板的上部设有冷却环槽,进液通道和出液通道均与冷却环槽连通,冷却液依次流经进液通道、冷却环槽和出液通道,以用于对气腔基件冷却。
进一步地,所述注液棒外侧套设有绝缘部件,以用于保护注液棒。
进一步地,所述气体离化冷却机构还包括多个磁性部件,所述气腔基件设有多个限位孔,多个限位孔呈环形阵列,形成限位孔环,多个离子发射通孔呈直线阵列,多个离子发射通孔均位于限位孔环内部,多个磁性部件分别限位于多个限位孔。
进一步地,所述气腔基件和负极载件之间安装有第二密封圈,以用于密封气腔基件和负极载件之间的间隙。
本发明的有益效果:本机构够产生大量的离子,作为溅射镀膜过程的轰击粒子,在气体放电的过程中负极载件处于超级高温状态,对冷却组件导入流动的冷却液,以对负极载件和气腔基件进行有效、快速的降温,延长各个部件的使用寿命。
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