[发明专利]声学调节材料、发声装置、填充方法及电子设备在审
申请号: | 202010659964.2 | 申请日: | 2020-07-10 |
公开(公告)号: | CN111534019A | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 潘泉泉;凌风光;李春;张成飞;刘春发 | 申请(专利权)人: | 歌尔股份有限公司 |
主分类号: | C08L25/06 | 分类号: | C08L25/06;C08L87/00;C08K7/26;C08K7/24;C08K3/36;C08J9/14;C08J9/10;C08J9/08;H04R1/28 |
代理公司: | 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人: | 王永亮 |
地址: | 261031 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 声学 调节 材料 发声 装置 填充 方法 电子设备 | ||
1.一种声学调节材料,其特征在于,包括:
缓冲填料和声学改善填料,所述缓冲填料在被触发的条件下进行发泡,成为泡沫体缓冲填料,以对所述声学改善填料在移动碰撞时提供缓冲作用,所述缓冲填料发泡后的体积随温度和/或发泡时间的变化而变化。
2.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,在发泡过程中,温度升高时所述缓冲填料的阻尼增大,所述缓冲填料的缓冲能力增强。
3.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,所述缓冲填料为颗粒状,所述缓冲填料发泡后的物理尺寸范围为0.1~25mm。
4.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,所述缓冲填料为层状,所述缓冲填料发泡后的厚度范围为0.01~5mm。
5.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,所述缓冲填料发泡后的密度范围为0.01~1.2g/mL。
6.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,所述缓冲填料包括混合在一起的高分子聚合物填料和发泡剂。
7.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,通过热辐射、光辐射、电磁辐射中的至少一种使所述缓冲填料触发。
8.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,发泡前,所述缓冲填料占声学调节材料的总体积的0.01%-35%;发泡后,泡沫体缓冲填料的体积占声学调节材料的总体积的0.05%-65%。
9.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,采用物理发泡法或者化学发泡法对所述缓冲填料进行触发。
10.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,所述泡沫体缓冲填料的体积为所述缓冲填料体积的2-200倍。
11.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,所述缓冲填料发泡前的物理尺寸是所述声学改善填料物理尺寸的10%~500%,所述缓冲填料发泡后的物理尺寸是所述声学改善填料物理尺寸的100%~800%。
12.根据权利要求1所述的声学调节材料,其特征在于,所述缓冲填料的发泡过程包括第一发泡阶段和第二发泡阶段,所述第一发泡阶段得到第一泡沫体缓冲填料,所述第二发泡阶段得到第二泡沫体缓冲填料。
13.根据权利要求12所述的声学调节材料,其特征在于,所述第二泡沫体缓冲填料的体积为所述第一泡沫体缓冲填料体积的1-25倍。
14.一种发声装置,其特征在于,包括壳体、发声单体和如权利要求1-13中的任一项所述的声学调节材料,所述壳体的内部形成腔体,所述腔体包括后声腔,所述发声单体设置在所述腔体内,所述发声单体与所述后声腔连通,所述后声腔包括灌装区,所述声学调节材料设置在所述灌装区内。
15.根据权利要求14所述的发声装置,其特征在于,发泡前,所述声学调节材料在所述灌装区内的填充率为50%-95%。
16.根据权利要求14所述的发声装置,其特征在于,所述缓冲填料和所述声学改善填料均为颗粒状材料,所述缓冲填料与所述声学改善填料混合填充于灌装区内。
17.根据权利要求14所述的发声装置,其特征在于,所述缓冲填料构成缓冲层,位于灌装区腔体的一个或多个内壁上,缓冲层由单一层整体材料或由多个颗粒状材料组合构成的一层结构;
所述声学改善填料填充于内壁含有缓冲层填料的灌装区中。
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