[发明专利]一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机在审
申请号: | 202010658008.2 | 申请日: | 2020-07-09 |
公开(公告)号: | CN111673547A | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 陈丙三 | 申请(专利权)人: | 福建工程学院 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B1/04;B24B31/112;B24B41/06;B24B41/00;B24B57/02;B24B47/12 |
代理公司: | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人: | 戴雨君 |
地址: | 350000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 陶瓷 内外 双面 流变 抛光机 | ||
本发明公开了一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机,包括工作台和设置在工作台上的抛光部、步进电机、夹持旋转机构和磁流变液供给机构,其中,抛光部包括第一抛光部和第二抛光部,其分别通过步进电机进行驱动相互反向旋转,通过内外抛光头进行反向转动(即第一抛光部和第二抛光部相互反向旋转),陶瓷管被夹持在床鞍上进行往复旋转运动,使陶瓷管与抛光头(包括抛光头A和抛光头B)之间产生相对运动,实现陶瓷管内外表面同时进行抛光,实现陶瓷管的高效率抛光,实现陶瓷管的高精度定位。
技术领域
本发明涉及抛光设备技术领域,尤其是一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机。
背景技术
抛光机也称为研磨机,常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是:电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转,由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦,进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的,抛光盘的转速一般在1500-3000 r/min,多为无级变速,施工时可根据需要随时调整。
随着对抛光的标准升高,磁流变抛光也逐渐进行普及,磁流变抛光是基于磁流变液的流变特性而衍生的应用分支,磁流变液中加入抛光磨粒,在磁场作用下,磁性颗粒夹杂着磨粒在工件表面滑移,进而去除工件表面材料,达到抛光的效果。
磁流变液是由磁性颗粒、基液和稳定剂组成的悬浮液。磁流变效应,是磁流变液在不加磁场时是可流动的液体,而在强磁场的作用下,其流变特性发生急剧的转变,表现为类似固体的性质,撤掉磁场时又恢复其流动特性的现象,磁流变抛光技术,正是利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有黏塑行为的柔性“小磨头”与工件之间具有快速的相对运动,使工件表面受到很大的剪切力,从而使工件表面材料被去除,达到抛光的效果。
然而,现有磁流变抛光机,无法对陶瓷管进行双面同时抛光,无法针对陶瓷管双面抛光的加工特点进行高精度定位。
发明内容
针对现有技术的情况,本发明的目的在于提供一种效率高、能够对陶瓷管进行内外表面同时抛光和固定定位精度高的陶瓷短管内外双面磁流变抛光机。
为了实现上述的技术目的,本发明所采用的技术方案为:
一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机,其包括:
工作台;
顶板,通过竖梁固定在工作台上方,竖梁的下端与工作台固定连接,竖梁的上端与顶板固定连接;
固定架,呈环形结构且固定设置在工作台和顶板之间;
第一驱动齿轮,为四个且呈圆形阵列转动连接在固定架的上端面;
第一抛光部,为环形结构且其外周侧设有齿轮结构并与四个第一驱动齿轮啮合连接,第一抛光部的内周侧形成有若干间隔设置的抛光头A且抛光头A上均设置有第一线圈,所述的第一抛光部用于陶瓷管的外表面抛光;
若干对限位块,呈环形阵列设置且将所述的第一抛光部转动约束在竖直方向上;
一对第一步进电机,与四个第一驱动齿轮中的两个相对的第一驱动齿轮连接,且带动对应的第一驱动齿轮驱动第一抛光部旋转;
第二抛光部,设置在第一抛光部的环形结构内且径向中心与第一抛光部的径向中心重合,第二抛光部的外周侧形成有若干间隔设置的抛光头B且抛光头B上设置有第二线圈,所述的第二抛光部的外周侧与第一抛光部的内周侧形成用于穿置陶瓷管的间隙,所述的第二抛光部用于陶瓷管的内表面抛光;
第二步进电机,固定在顶板下端面且其驱动端通过连接轴连接有转轴,转轴的下端与第二抛光部的中心固定连接且由第二步进电机驱动第二抛光部相对第一抛光部反向旋转;
夹持旋转机构,设置第二抛光部下方且用于夹持待抛光的陶瓷管下端并带动陶瓷管往复旋转摆动;
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