[发明专利]原位真空降水修复方法

权利要求书

1.原位真空降水修复方法，其特征在于，包括：

在待处理污泥中布设若干个药剂注入井，所述药剂注入井的上端留接头；

铺设土工布至所述待处理污泥的上方；

在所述待处理污泥上打设若干个排水板，并将所述排水板的上端与真空管相连；

铺设密封膜至所述待处理污泥、所述药剂注入井、所述排水板和所述真空管的上方，将所述药剂注入井的接头和所述真空管穿过所述密封膜并将贯穿处的所述密封膜扎紧，密封所述土工布和所述密封膜的边缘；

向所述药剂注入井内注入药剂后，真空抽提使所述药剂扩散，再真空抽提降水。

2.如权利要求1所述的原位真空降水修复方法，其特征在于，所述排水板为塑料排水板，所述排水板在水平面上呈矩阵排布，且相邻两个所述排水板之间的间距为0.8-1.2米，所述排水板的打设深度小于待处理污泥深度的0.4-0.6米，所述排水板露出所述污泥的长度为0.5-0.7米。

3.如权利要求2所述的原位真空降水修复方法，其特征在于，所述排水板的上端通过蝶形接头与所述真空管相连，相邻两行所述排水板连接至同一所述真空管上。

4.如权利要求1所述的原位真空降水修复方法，其特征在于，所述真空管包括用于与所述排水板相连的支管，以及用于与所述支管相连的主管。

5.如权利要求1所述的原位真空降水修复方法，其特征在于，所述土工布设有一层，所述密封膜设有两层。

6.如权利要求1所述的原位真空降水修复方法，其特征在于，密封所述土工布和所述密封膜的边缘时，在待处理污泥的边缘处开挖沟槽，将所述土工布和所述密封膜的边缘压入所述沟槽，用污泥填埋所述沟槽并压实。

7.如权利要求1所述的原位真空降水修复方法，其特征在于，向所述药剂注入井内注入药剂前，检验所述密封膜的空载真空度。

8.如权利要求1-7中任一项所述的原位真空降水修复方法，其特征在于，向所述药剂注入井内注入药剂时，间断性向所述药剂注入井内多次注入药剂，每次注入所述药剂后分别进行真空抽提，最后进行真空抽提降水。

9.如权利要求8所述的原位真空降水修复方法，其特征在于，间断性向所述药剂注入井注入药剂时，每隔3-5小时，向所述药剂注入井内注入所述药剂0.8-1.2小时，所述药剂的注入量为1.5-2.5立方米，每次所述药剂注入完成后，分别进行持续抽提，完成多次所述持续抽提后，进行真空抽提降水。

10.如权利要求1-7中任一项所述的原位真空降水修复方法，其特征在于，在待处理污泥中布设若干个药剂注入井前，向所述待处理污泥的表层铺设素土垫层，所述素土垫层的厚度大于30厘米。