[发明专利]一种增强型光解水制氢装置在审

专利信息
申请号: 202010577337.4 申请日: 2020-06-23
公开(公告)号: CN111686707A 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 中山科立特光电科技有限公司
主分类号: B01J21/06 分类号: B01J21/06;B01J21/08;B01J23/42;C01B3/04
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地址: 528458 广东省中山市火炬开发区中心城区港义*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 增强 光解 水制氢 装置
【说明书】:

发明提供了一种增强型光解水制氢装置,反射层置于基底层上,二氧化硅部的截面为锥形,二氧化硅部周期地置于反射层上,薄膜层覆盖二氧化硅部,第一二氧化钛部置于由相邻二氧化硅部构成的凹槽内。应用时,光被薄膜层限制在二氧化硅部内,所以能够被第一二氧化钛部充分利用,使得第一二氧化钛部内产生更多的光生电子和光生空穴;另外,薄膜层的费米能级更低,薄膜层与二氧化钛材料接触,形成势垒,使得光生电子加快地移动到薄膜层的表面参与氧化反应,也增加了光生电子和光生空穴的寿命,这些都提高了第一二氧化钛层的光分解水能力,提高了制氢效率。本发明具有光利用率高、制氢效率高的优点,在制氢领域具有重要的应用前途。

技术领域

本发明涉及制氢技术领域,具体涉及一种增强型光解水制氢装置。

背景技术

近年来,社会在能源危机和环境污染方面面临着越来越严重的挑战。科学发现因为氢能具有高效和清洁的特点,氢能被普遍认为是未来最适当的能源载体。光解水制氢具有污染小、应用方便的优点,是制氢的重要手段。传统光解水制氢中,光利用效率低,从而导致制氢效率低。

发明内容

为解决以上问题,本发明提供了一种增强型光解水制氢装置,该装置包括基底层、反射层、二氧化硅部、薄膜层、第一二氧化钛部;反射层置于基底层上,二氧化硅部的截面为锥形,二氧化硅部周期地置于反射层上,薄膜层覆盖二氧化硅部,第一二氧化钛部置于由相邻二氧化硅部构成的凹槽内。

更进一步地,反射层的材料为金或银。

更进一步地,薄膜层的材料为石墨烯或铂。

更进一步地,二氧化硅部两边的倾角相同。

更进一步地,相邻二氧化硅部两边的倾角不同。

更进一步地,二氧化硅部的截面为梯形。

更进一步地,在薄膜层上、二氧化硅部顶部的对应位置设有第二二氧化钛部。

更进一步地,第一二氧化钛部的上表面为凹形。

更进一步地,二氧化硅部两边的倾角大于45度、小于75度。

更进一步地,第二二氧化钛部的材料为二氧化钛纳米管。

本发明的有益效果:本发明提供了一种增强型光解水制氢装置,反射层置于基底层上,二氧化硅部的截面为锥形,二氧化硅部周期地置于反射层上,薄膜层覆盖二氧化硅部,第一二氧化钛部置于由相邻二氧化硅部构成的凹槽内。应用时,光被薄膜层限制在二氧化硅部内,所以能够被第一二氧化钛部充分利用,使得第一二氧化钛部内产生更多的光生电子和光生空穴;另外,薄膜层的费米能级更低,薄膜层与二氧化钛材料接触,形成势垒,使得光生电子加快地移动到薄膜层的表面参与氧化反应,也增加了光生电子和光生空穴的寿命,这些都提高了第一二氧化钛层的光分解水能力,提高了制氢效率。本发明具有光利用率高、制氢效率高的优点,在制氢领域具有重要的应用前途。

以下将结合附图对本发明做进一步详细说明。

附图说明

图1是增强型光解水制氢装置的示意图。

图2是又一种增强型光解水制氢装置的示意图。

图3是再一种增强型光解水制氢装置的示意图。

图中:1、基底层;2、反射层;3、二氧化硅部;4、薄膜层;5、第一二氧化钛部;6、第二二氧化钛部。

具体实施方式

为进一步阐述本发明达成预定目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及实施例对本发明的具体实施方式、结构特征及其功效,详细说明如下。

实施例1

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