[发明专利]由积层制造工艺所生产的研磨垫

权利要求书

1.一种具有研磨表面的研磨物件，所述研磨表面被配置用于研磨基板的材料表面，所述研磨物件包括：

基底材料层，所述基底材料层形成所述研磨物件的支撑表面，其中所述基底材料层由多个顺序沉积并部分地固化的第一层形成；以及

多个独立研磨元件，所述多个独立研磨元件以一个或多个螺旋形布置被安置在所述基底材料层上并从所述基底材料层向上延伸，以共同限定所述研磨表面中的一个或多个沟槽，其中

所述一个或多个螺旋形布置中的每一个内的所述多个独立研磨元件中的相邻研磨元件被间隔开以限定设置在它们之间的对应的多个间隙，

所述多个独立研磨元件由多个顺序沉积并部分地固化的第二层形成，

用于形成所述基底材料层和所述多个独立研磨元件的相应的前体组成物在它们之间的界面边界区域处彼此共聚，以及

所述基底材料层的玻璃转变温度低于所述多个独立研磨元件的玻璃转变温度。

2.如权利要求1所述的研磨物件，其中，所述多个间隙中的个别的间隙在所述一个或多个螺旋形布置的相邻部分中不与所述多个间隙中的其他间隙径向对准。

3.如权利要求2所述的研磨物件，其中，所述多个间隙形成跨所述研磨表面的半径的曲折路径。

4.如权利要求1所述的研磨物件，其中，所述多个第一层由对应的第一前体组成物的至少第一滴形成，所述多个第二层由所述第一滴和对应的第二前体组成物的第二滴形成，并且所述第一前体组成物不同于所述第二前体组成物。

5.如权利要求4所述的研磨物件，其中，所述多个第一层进一步由所述对应的第二前体组成物的第二滴形成，并且用于形成所述第一层的所述第一和第二滴的材料组成物比不同于用于形成所述第二层的所述第一和第二滴的材料组成物比。

6.如权利要求4所述的研磨物件，其中，所述第一前体组成物包含具有小于40℃的玻璃转变温度的组分，而所述第二前体组成物包含具有大于或等于40℃的玻璃转变温度的组分。

7.如权利要求4所述的研磨物件，其中，所述第一前体组成物包含一种或多种官能性聚合物以及一种或多种多官能性丙烯酸酯寡聚物，所述一种或多种官能性聚合物具有小于40℃的玻璃转变温度。

8.如权利要求7所述的研磨物件，其中，用于形成所述多个第二层的所述第二滴与所述第一滴的材料组成物比大于1。

9.如权利要求4所述的研磨物件，其中，所述第一和第二前体组成物中的一者或二者包含多官能性丙烯酸酯寡聚物和丙烯酸酯单体。

10.如权利要求9所述的研磨物件，其中，所述丙烯酸酯单体具有2或更高的官能度。

11.一种研磨物件，包括：

支撑部分，所述支撑部分由第一前体组成物的以逐层积层制造工艺施配并至少部分地固化的至少多个独立滴形成；以及

多个独立研磨元件，所述多个独立研磨元件从所述支撑部分向上延伸以形成研磨表面，其中

所述多个独立研磨元件以所述逐层积层制造工艺使用所述第一前体组成物的多个独立滴和第二前体组成物的多个独立滴的部分重叠的图案来形成，

所述第二前体组成物不同于所述第一前体组成物，

用于形成所述支撑部分和所述多个独立研磨元件的相应的前体组成物在所述支撑部分和所述多个独立研磨元件之间的界面边界区域处彼此共聚，

所述多个独立研磨元件以一个或多个螺旋形布置进行安置，以共同限定所述研磨表面中的一个或多个沟槽，以及

所述一个或多个螺旋形布置中的每一个内的所述多个独立研磨元件中的相邻研磨元件被间隔开以限定设置在其间的对应的多个间隙。