[发明专利]一种用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置

权利要求书

1.一种用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，包括：底座(10)、安装座(20)、靶材(30)以及管道(40)；所述底座(10)设有通孔(11)；所述安装座(20)呈顶部封口的圆筒形，所述安装座(20)的底部与所述底座(10)连接，并且所述安装座(20)的内腔与所述通孔(11)连通；所述靶材(30)套设在所述安装座(20)的外侧，所述靶材(30)与所述安装座(20)的外侧壁之间设有低熔导电填充层(50)；所述管道(40)从所述通孔(11)伸入所述安装座(20)的内腔。

2.根据权利要求1所述的用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，所述安装座(20)包括从上到下依次连接的顶盖(21)、限位筒(22)以及限位座(23)；所述靶材(30)套设在所述限位筒(22)的外侧，并且所述靶材(30)的底部与所述限位座(23)连接。

3.根据权利要求2所述的用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，所述靶材(30)的底部与所述限位座(23)榫卯连接，并且所述靶材(30)与所述限位座(23)之间的连接处设有高温密封圈(24)。

4.根据权利要求3所述的用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，所述限位筒(22)的内部设有磁场线圈(80)。

5.根据权利要求4所述的用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，所述磁场线圈(80)的顶部在竖直方向上的位置低于所述管道(40)的管口所处的位置。

6.根据权利要求5所述的用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，磁场线圈(80)套设在所述管道(40)的外侧。

7.根据权利要求6所述的用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，所述顶盖(21)的外侧套设有上屏蔽罩(60)，所述限位筒(22)的下部、所述限位座(23)以及所述底座(10)的外侧套设有下屏蔽罩(70)，所述磁场线圈(80)在竖直方向上的位置位于所述上屏蔽罩(60)和所述下屏蔽罩(70)之间。

8.根据权利要求1至7任一项所述的用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，所述管道(40)的外侧壁与所述安装座(20)的内侧壁以及所述通孔(11)的侧壁之间具有间隙。

9.根据权利要求8所述的用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，所述低熔导电填充层(50)的材质的熔点为100℃至300℃。

10.根据权利要求9所述的用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置，其特征在于，所述低熔导电填充层(50)的材质为锡膏。