[发明专利]一种精馏釜残的净化处理方法

权利要求书

1.一种精馏釜残的净化处理方法，其特征在于包括：卧式临氧裂解装置处于连续旋转的状态，精馏釜残进入临氧裂解装置后，在空气气氛以及临氧裂解催化剂的存在下进行临氧裂解氧化处理，裂解氧化处理产生的含有机物的气体进入催化氧化装置进行催化氧化处理；

其中，所述的精馏釜残的平均分子量不低于10000 kg/kmol，且精馏釜残中的任一元素经过临氧裂解后形成的氧化物的沸点或升华点不高于400℃；

所述的精馏釜残以0.5～1吨_釜残/(吨_催化剂·h)的速率进入临氧裂解装置使得精馏釜残被翻滚流动的催化剂完全包埋，同时以15000～25000 m³/(吨_釜残·h) 的速率通入的空气；

所述的临氧裂解催化剂是由具有碱性的氧化物和具有氧化性的氧化物负载于载体上制备所得；具有碱性的氧化物的负载量为1～5wt%，具有氧化性的氧化物的负载量为5～25wt%；所述的具有碱性的氧化物为氧化钙、氧化镁、氧化铍或氧化钡中的一种，所述的具有氧化性的氧化物为氧化铜、氧化铬、氧化钒、氧化钛、氧化铈、氧化锰、氧化钴中的一种；所述的载体是氧化铝、HY分子筛或丝光沸石；

所述的临氧裂解氧化处理的温度为450～550 ℃。

2.根据权利要求1所述的精馏釜残的净化处理方法，其特征在于所述的临氧裂解催化剂粒径为1～200 微米。

3.根据权利要求1所述的精馏釜残的净化处理方法，其特征在于临氧裂解装置出口气体中有机物的含量为500～5000 mg/m³。

4.根据权利要求1所述的精馏釜残的净化处理方法，其特征在于含有机物的气体以10000～30000 h^-1的体积空速进入催化氧化装置，催化氧化反应温度为250～450 ℃。

5.根据权利要求1所述的精馏釜残的净化处理方法，其特征在于催化氧化处理采用的催化剂为临氧裂解催化剂经过机械成型后的催化剂或催化燃烧催化剂。

6.根据权利要求1或4所述的精馏釜残的净化处理方法，其特征在于催化氧化装置出口气体中有机物的含量为0～50 mg/m³。