[发明专利]屏下指纹识别用像素级彩色滤光膜芯片制作方法

权利要求书

1.屏下指纹识别用像素级彩色滤光膜芯片制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：准备一块陪镀片作为基底，陪镀片在可见光波段透射率T≥90％；

S2：在陪镀片上均匀旋涂负性光刻胶，厚度1-2微米；

S3：在负性光刻胶上覆盖掩膜板进行紫外曝光，掩膜板镂空区域会透光，照射到负性光刻胶上得曝光区域会固化到陪镀片上；

S4：移开掩膜板，使用碱液清洗进行显影，未曝光区域会被洗掉，留下的为所要的单色的像素滤光块；

S5：重复步骤S2-S4采用不同颜色的负性光刻胶进行3×3的9周期像素滤光块的制作，最终得到彩色滤光膜阵列；

S6：将彩色滤光膜阵列与带有像素单元的cmos传感器进行封装，所述彩色滤光膜阵列的单一像素滤光块对应cmos传感器上N个像素单元，多个彩色滤光膜阵列离散的分布在cmos传感器上。

2.根据权利要求1所述的屏下指纹识别用像素级彩色滤光膜芯片制作方法，其特征在于，所述彩色滤光膜矩阵最终组成可见光膜系、近紫外光膜系和近红外光膜系。