[发明专利]磁性物品

权利要求书

1.一种用于形成物品的方法，包括：

在基板上沉积第一吸收层；

在所述第一吸收层上沉积第一选择性调光层；

在所述第一选择性调光层上沉积第一反射层；和

在所述第一反射层上沉积含磁层；

其中使用液体涂覆工艺沉积所述第一选择性调光层，所述液体涂覆工艺包括狭缝模、狭缝珠、滑珠、狭缝帘、滑帘、拉伸网状狭缝、凹版印刷或辊涂。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一选择性调光层具有在从0.1μm至500μm的范围内的湿膜厚度。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，使用液体涂覆工艺沉积所述含磁层。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一选择性调光层包括溶剂；并且所述液体涂覆工艺还包括从被沉积的第一选择性调光层蒸发所述溶剂。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述液体涂覆工艺包括：在100m/min的涂覆速度，9的狭缝间隙对湿膜厚度的比率。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述液体涂覆工艺包括：在50m/min的涂覆速度，20的狭缝间隙对湿膜厚度的比率。

7.根据权利要求2所述的方法，其中所述湿膜厚度在从0.1μm到5μm的范围内，并且产生稳定的第一选择性调光层。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述基板包括释放层。

9.根据权利要求8所述的方法，还包括冷却所述释放层。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一选择性调光层是自动均匀化的并且跨所述第一选择性调光层具有减小的光学厚度变化。

11.根据权利要求10所述的方法，其中自动均匀化的第一选择性调光层呈现增加的光学精确性。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述液体涂覆工艺包括：以狭缝模珠模式在100m/min的涂覆速度的情况下的10μm的湿膜厚度。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述液体涂覆工艺包括：以狭缝模珠模式在1200m/min的涂覆速度的情况下的6μm到7μm的湿膜厚度。

14.根据权利要求4所述的方法，其中在固化前99.9％的所述溶剂从所述第一选择性调光层被蒸发。

15.根据权利要求14所述的方法，其中在蒸发所述溶剂之后，所述第一选择性调光层保留液体。

16.根据权利要求10所述的方法，其中所述第一选择性调光层跨所述第一选择性调光层具有小于3％的光学厚度变化。

17.根据权利要求10所述的方法，其中所述第一选择性调光层跨所述第一选择性调光层具有小于5％的光学厚度变化。

18.根据权利要求10所述的方法，其中所述第一选择性调光层跨所述第一选择性调光层具有小于7％的光学厚度变化。

19.根据权利要求1所述的方法，其中所述液体涂覆工艺允许以与其他沉积技术相比更快的速率沉积所述第一选择性调光层。