[发明专利]一种基坑后防渗体系施工方法有效

专利信息
申请号: 202010475533.0 申请日: 2020-05-29
公开(公告)号: CN111560964B 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 沈元红 申请(专利权)人: 北京市地质工程公司
主分类号: E02D17/04 分类号: E02D17/04;E02D19/18;E02D5/76;E02D5/18
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 赵万凯
地址: 100089*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基坑 防渗 体系 施工 方法
【说明书】:

发明涉及一种基坑后防渗体系施工方法,涉及基坑工程的技术领域,包括以下步骤:S1、基坑已做好桩锚支护,并开挖完成;S2、在基坑临河道的一侧于相邻护坡桩之间高压旋喷形成与护坡桩咬合的旋喷桩,旋喷桩的底面标高与护坡桩底面标高相同,旋喷桩的顶面标高高于地下水最高水位高度;S3、在护坡桩靠近基坑内部的一侧沿着基坑的轮廓施工围蔽的防渗墙,防渗墙的底面嵌入岩层,靠近河道一侧的防渗墙顶面标高高于护坡桩的底面标高,其余防渗墙顶面高于地下水最高水位标高;将护坡桩、旋喷桩与靠近河道一侧的防渗墙之间的间隙密封。本发明具有防渗性好、对基坑以及周围建筑影响小的优点。

技术领域

本发明涉及基坑工程的技术领域,尤其是涉及一种基坑后防渗体系施工方法。

背景技术

基坑是在基础设计位置按照基底标高和基础平面尺寸所开挖的土坑。开挖前应根据地质水文资料,结合现场附近建筑物情况,决定开挖方案,并作好支护以及防排水工作。

目前,在某基坑工程中,在其地质勘察和方案设计阶段,地下水水位位于基坑底以下,地下水类型为潜水,地层主要以杂填土和卵石层为主。在方案设计阶段由于基坑不受地下水的影响,只是采用了桩锚支护作为基坑的防护。在基坑开挖以及防护完成之后,由于基坑一侧临有一河道,受河道蓄水的影响,地下水位上涨至基坑底面以上,造成地下水渗入基坑,造成无法施工。

现有的,基坑降水方法,一般采用降水井降水, 然而由于基坑周围地层以卵石层为主,并且水位受河道蓄水的影响,很难通过降水井将水位降下;此外降水井降水很容易造成地表沉降,影响周围建筑的稳定性。因此,需要一种基坑后防渗体系的做法。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明的目的是提供一种基坑后防渗体系施工方法,具有防渗性好、对基坑以及周围建筑影响小的优点。

本发明的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种基坑后防渗体系施工方法,包括以下步骤:

S1、基坑已做好桩锚支护,并开挖完成;

S2、在基坑临河道的一侧于相邻护坡桩之间高压旋喷形成与护坡桩咬合的旋喷桩,旋喷桩的底面标高与护坡桩底面标高相同,旋喷桩的顶面标高高于地下水最高水位高度;

S3、在护坡桩靠近基坑内部的一侧沿着基坑的轮廓施工围蔽的防渗墙,防渗墙的底面嵌入岩层,靠近河道一侧的防渗墙顶面标高高于护坡桩的底面标高,其余防渗墙顶面高于地下水最高水位标高;将护坡桩、旋喷桩与靠近河道一侧的防渗墙之间的间隙密封。

通过采用上述技术方案,结合已施工完成的护坡桩,在基坑临河道一侧的护坡桩之间高压旋喷形成与护坡桩咬合的旋喷桩,旋喷桩与护坡桩形成止水帷幕,其形成的止水帷幕稳定性好,用于防水和承担地下水由于河道水位影响对止水帷幕造成直接的水压力,同时结合沿基坑轮廓方向的防渗墙将基坑进行围蔽,防止河道蓄水对基坑下方地下水位产生影响,保证基坑的稳定性。相较于传统的基坑降水,本方案避免了地下水位变化对地表以及其上的建筑物造成沉降的危险,为基坑后防护体系提供了一种新方法,具有防渗性好、对基坑以及周围建筑影响小的优点。

本发明在一较佳示例中可以进一步配置为:步骤S3中,在护坡桩、旋喷桩与靠近河道一侧的防渗墙之间高压旋喷形成咬合桩,咬合桩将护坡桩、旋喷桩与靠近河道一侧的防渗墙之间间隙填充并密封。

通过采用上述技术方案,在防渗墙和护坡桩、旋喷桩之间高压旋喷形成咬合桩,咬合桩将间隙进行填充和密封,避免地下水从间隙处上涌,保证防渗结构的防渗性能。

本发明在一较佳示例中可以进一步配置为:步骤S3中,防渗墙施工之前,先施工导墙,并在防渗墙内插设H型钢,H型钢位于防渗墙顶面到护坡桩底面之间,相邻H型钢间距1-3m,然后浇筑混凝土形成防渗墙。

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