[发明专利]用于识别建筑物访问机构的方法、设备和计算机程序产品在审

专利信息
申请号: 202010440200.4 申请日: 2020-05-22
公开(公告)号: CN111984875A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 奥莱·亨利·德吕姆 申请(专利权)人: 赫尔环球有限公司
主分类号: G06F16/9537 分类号: G06F16/9537;G06F16/2458;G06F16/248;G06F16/29;G01C21/20
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 张娜;李荣胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 识别 建筑物 访问 机构 方法 设备 计算机 程序 产品
【权利要求书】:

1.一种绘制系统,包括:

存储器,其包括地图数据;以及

处理电路系统,其被配置为:

接收探测数据点,从多个探测设备中的探测设备接收每个探测数据点,每个探测设备包括一个或多个传感器并且与用户相关联,其中每个探测数据点包括与相应探测设备相关联的位置信息和轨迹信息;

确定所述探测数据点中的每个探测数据点的位置;

确定建筑物的第一边的探测数据点候选,其中所述建筑物的所述第一边的所述探测数据点候选具有在所述建筑物的所述第一边的缓冲区内的位置;

确定所述探测数据点候选中的进入或离开所述建筑物的探测数据点;

根据进入或离开所述建筑物的所述探测数据点生成所述建筑物的所述第一边的探测密度直方图,其中,所述探测密度直方图表示跨越所述建筑物的所述第一边的宽度的多个位置中的每个位置处的探测数据点的容量;

对所述探测密度直方图应用去卷积方法以获得多模态直方图;

根据所述多模态直方图确定多个统计上显著的峰,其中每个统计上显著的峰表示所述建筑物的所述第一边中的所述建筑物的访问机构;以及

基于计算出的所述建筑物的访问机构来提供用于导航辅助的数据。

2.根据权利要求1所述的绘制系统,其中,被配置为根据所述多模态直方图确定多个统计上显著的峰的所述处理电路系统包括被配置为进行以下操作的处理电路系统:

根据所述多模态直方图,确定每个统计上显著的峰离所述建筑物的所述第一边上的参考点的距离。

3.根据权利要求2所述的绘制系统,其中,被配置为根据所述多模态直方图确定多个统计上显著的峰的所述处理电路系统包括还被配置为进行以下操作的处理电路系统,其中,每个统计上显著的峰表示所述建筑物的所述第一边中的所述建筑物的访问机构:

生成所述建筑物的所述第一边的透视图;

识别所述透视图中的所述建筑物的所述第一边中的访问机构;以及

使用所生成的透视图与所识别的访问机构来提供导航辅助。

4.根据权利要求1所述的绘制系统,其中,被配置为生成所述建筑物的所述第一边的探测密度直方图的处理电路系统包括被配置为执行以下操作的处理电路系统,其中所述建筑物的所述第一边的探测密度直方图表示跨越所述第一边的宽度的多个位置中的每个位置处的探测数据点的容量:

根据选定的面元大小,将所述第一边的宽度细分成多个面元;

将进入和离开所述建筑物的所述探测数据点中的每个探测数据点归到所述多个面元中的与相应探测数据点离所述建筑物的所述第一边上的参考点的距离相对应的相应面元;以及

基于跨越所述第一边的所述宽度的每个面元中的探测数据点的容量,生成所述探测密度直方图。

5.根据权利要求1所述的绘制系统,其中,所述去卷积方法包括最大熵方法。

6.根据权利要求1所述的绘制系统,其中,被配置为将去卷积方法应用于所述探测密度直方图以获得多模态直方图的处理电路系统包括被配置为执行以下操作的处理电路系统:

使用点扩散函数对所述建筑物的所述第一边的所述缓冲区内的所述探测数据点的位置误差建模;

使用所述点扩散函数将所述去卷积方法应用于所述探测密度直方图;以及

生成所述建筑物的所述第一边的所述多模态直方图。

7.根据权利要求1所述的绘制系统,其中,被配置为针对所述探测数据点候选确定进入或离开所述建筑物的探测数据点的处理电路系统包括被配置为执行以下操作的处理电路系统:

基于指示所述建筑物的所述第一边的交叉的相应探测轨迹,识别通过所述建筑物的所述第一边进入或离开所述建筑物的探测数据点。

8.根据权利要求7所述的绘制系统,其中所述处理电路系统还被配置为基于所述探测轨迹与所述建筑物的所述第一边交叉的方向来区分所述建筑物的访问机构作为入口或出口。

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