[发明专利]成像模组及成像方法

权利要求书

1.一种成像模组，其特征在于，包含：

透光件，具有入光面以及出光面；

多个微结构，分布于该透光件中的第一数量个深度，其中该第一数量小于或等于微结构的数量；以及

光源，相对该入光面设置；

其中，该光源朝该入光面发出光线，该光线通过该入光面而投射至该多个微结构，且该多个微结构将该光线的至少部分反射至该出光面，使得该光线的该至少部分通过该出光面而投射出该透光件。

2.如权利要求1所述的成像模组，其特征在于，该微结构的尺寸范围为0.01～0.03mm，该多个微结构的密度为50～80个/mm^2。

3.如权利要求1所述的成像模组，其特征在于，该多个微结构由于该透光件中的第一数量个深度激光雕刻而形成。

4.如权利要求3所述的成像模组，其特征在于，用于该激光雕刻的激光的输出口的移动速度为1600mm/s，该激光的输出功率为8W，且该激光的脉冲频率为20KHz。

5.如权利要求1所述的成像模组，其特征在于，该光源为侧入式光源。

6.如权利要求5所述的成像模组，其特征在于，该透光件还具有非出光面，该非出光面与该出光面相对，该成像模组还包含光学膜片，该光学膜片设置于该非出光面。

7.如权利要求6所述的成像模组，其特征在于，该光学膜片为反射片、反射膜、吸光片或吸光膜。

8.如权利要求1所述的成像模组，其特征在于，该多个微结构形成预定图样，使得该光线经由该多个微结构反射而形成对应该预定图样的光图样。

9.如权利要求1所述的成像模组，其特征在于，该多个微结构分布于该透光件中，该成像模组还包含遮光件，该遮光件设置于该出光面上，该遮光件包含透光区，该光线依序通过该出光面与该透光区而投射出该透光件，进而形成对应该透光区的光图样。

10.如权利要求1所述的成像模组，其特征在于，该光线具有第一颜色，该透光件具有第二颜色，在该光线通过该入光面后，该第一颜色与该第二颜色混合产生第三颜色；或者；荧光粉掺杂于该透光件中，该光线具有第一颜色，该荧光粉具有第二颜色，在该光线通过该入光面后，该第二颜色的该荧光粉受该第一颜色的该光线激发产生第三颜色。

11.一种成像方法，其特征在于，包含下列步骤：

提供透光件，其中该透光件具有入光面以及出光面，多个微结构分布于该透光件中的第一数量个深度，其中该第一数量小于或等于微结构的数量；

朝该入光面发出光线；

该光线通过该入光面而投射至该多个微结构；

该多个微结构将该光线的至少部分反射至该出光面；以及

该光线的该至少部分通过该出光面而投射出该透光件。

12.如权利要求11所述的成像方法，其特征在于，该微结构的尺寸范围为0.01～0.03mm，该多个微结构的密度为50～80个/mm^2。

13.如权利要求11所述的成像方法，其特征在于，还包含下列步骤：

于该透光件中的第一数量个深度激光雕刻而形成该多个微结构。

14.如权利要求13所述的成像方法，其特征在于，该雷射的输出口的移动速度为1600mm/s，该雷射的输出功率为8W，且该雷射的脉冲频率为20KHz。

15.如权利要求11所述的成像方法，其特征在于，该光源为侧入式光源。

16.如权利要求15所述的成像方法，其特征在于，该透光件还具有非出光面，该非出光面与该出光面相对，该成像方法还包含设置光学膜片于该非出光面上。