[发明专利]一种高倍截留强化纳米结构复合膜的制备方法

权利要求书

1.一种高倍截留强化纳米结构复合膜的制备方法，其特征在于，采用了硫氢根、亚硫酸根、亚硫酸氢根、碳酸氢根、碳酸根其中一种或多种组合的水相缓冲体系，整体操作环境温度≥25℃，在加压环境下进行含浸，负压环境下进行聚合过程，具体操作步骤为：

(1)配制水相单体溶液，水相中的硫氢根、亚硫酸根、亚硫酸氢根、碳酸氢根、碳酸根其中一种或多种组合的浓度为0.05-0.80mol/L，水相中的哌嗪或其二胺衍生物的含量为0.15-2％，通过磁力搅拌或超声振荡混合均匀；

(2)配制有机相单体溶液；

(3)界面聚合反应，在0.1-0.4Mpa压力下将基膜含浸在配制好的水相单体溶液中3-10分钟后将水相溶液倒出，除去表面多余的液体，然后再将基膜含浸在配制好的有机相单体溶液中60-120秒钟，将有机相溶液倒出，含浸后的基膜放入30-100℃的烘箱中在-0.01～-0.03Mpa压力下进行热处理3-40分钟，热处理完成后用去离子水清洗并浸泡在去离子水中得到高倍截留强化纳米结构复合膜。

2.根据权利要求1所述的一种高倍截留强化纳米结构复合膜的制备方法，其特征在于，在所述步骤(2)中，有机相单体为0.1-0.3％的均苯三甲酰氯有机溶液；有机相溶剂为正构或异构烷烃类溶剂。

3.根据权利要求1所述的一种高倍截留强化纳米结构复合膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中基膜可选用聚砜、聚醚砜、磺化聚醚砜、聚酰亚胺、聚丙烯、聚丙烯腈、聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯、聚醚酮中的一种或多种组合制备的超滤膜。

4.根据权利要求3所述的超滤基膜截留分子量为20000-50000Da。

5.根据权利要求1所述的一种高倍截留强化纳米结构复合膜的制备方法，其特征在于，在25℃条件及0.7MPa操作压力下，所述纳米结构复合膜分别对2000mg/L硫酸镁的脱盐率≥99％，氯化钠脱盐率≥45％，水通量≥30L/(m²·h)。