[发明专利]一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置

权利要求书

1.一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置，其特征在于：包括气瓶、等离子体发生器、石墨反应罐、离心分离机、杂质罐、组合剂溶解罐、石墨前驱体罐、石墨储罐、石墨料斗、第一进料阀、输料泵、第二进料阀、第三进料阀、第四进料阀、第五进料阀、第六进料阀，其中等离子体发生器包括进气口、出气口、接地装置，石墨反应罐包括加热管、气体分布器、溶剂入口、搅拌器、底板，气体分布器为U型管，包括横管、两根竖管、气口、气孔，气口在横管上，通过第六进料阀与等离子体发生器的出气口相连，在竖管上布满交错的气孔。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置，其特征在于：气体分布器的个数≥1，这些U型管的横管交叉连接在一起，交叉点连接处为气口，从同一个气口进来的气体到达不同U型管的竖管，从竖管的气孔进入石墨反应罐中。

3.根据权利要求1所述的一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置，其特征在于：加热管在石墨反应罐外部缠绕，搅拌器在石墨反应罐中间， 气体分布器U型管的两根竖管分布在搅拌器两侧，长度小于石墨反应罐高度，横管位于搅拌叶底端和底板之间，溶剂入口在石墨反应罐上部。

4.根据权利要求1所述的一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置，其特征在于：等离子体发生器一侧设置进气口，另一侧设置出气口，下部设置接地装置；气瓶与进气口相连，出气口与第六进料阀相连，第六进料阀另一端与石墨反应罐相连，石墨反应罐内，底部设置气体分布器，石墨反应罐外设置加热管，上部设置溶剂入口。

5.根据权利要求1所述的一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置，其特征在于：石墨料斗直接连接在石墨反应罐上部，将石墨直接通过石墨料斗注入到石墨反应罐中；石墨反应罐下方设置第一进料阀，第一进料阀与输料泵相连，输料泵连接到离心分离机上。

6.根据权利要求1所述的一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置，其特征在于：离心分离机下面分别设置第二进料阀、第三进料阀，第二进料阀与杂质罐相连，第三进料阀与石墨前驱体罐相连；组合剂溶解罐与第四进料阀相连，第四进料阀另一侧连接到石墨前驱体罐上，组合剂通过第四进料阀打入到石墨前驱体罐中。

7.根据权利要求1所述的一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置，其特征在于：石墨前驱体罐下方与第五进料阀相连，第五进料阀另一侧与石墨储罐相连。

8.根据权利要求1所述的一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置，其特征在于：等离子体发生器放电结构为多针-板式放电结构，采用分区激励式大气压非平衡等离子体产生模式。

9.根据权利要求1所述的一种等离子体注入式高纯石墨提纯装置，其特征在于：在气体分布器的气口处设置旋转装置，使气体分布器在石墨反应罐旋转，并且按照与搅拌器相反的方向旋转。