[发明专利]展宽高功率强激光频谱的方法有效
| 申请号: | 202010254129.0 | 申请日: | 2020-04-02 |
| 公开(公告)号: | CN111509559B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
| 发明(设计)人: | 赵耀;康宁;刘会亚;朱健强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | H01S5/10 | 分类号: | H01S5/10 |
| 代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 张宁展 |
| 地址: | 201800 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 展宽 功率 激光 频谱 方法 | ||
1.一种展宽高功率强激光频谱的方法,其特征在于该方法是基于高功率强激光在毫米级气体等离子体中的自调制作用,近相对论光强的脉冲在低密度等离子体中可以激发准线性电子等离子体波,该方法包括以下步骤:
1)峰值光强1016W/cm2至1019W/cm2的高功率激光器输出高功率强激光的泵浦光(1)的脉宽在100fs至10ps之间,利用透镜对所述的泵浦光(1)进行聚焦,使所述的泵浦光(1)达到最佳强度范围,所述的泵浦光(1)的焦斑的峰值光强满足I0,单位W/cm2,I05×1016/λ02,其中λ0为泵浦光(1)的波长,单位μm;
2)利用气体喷嘴产生密度在1018cm-3与1020cm-3之间的均匀的气体用于激光的调制,所述的气体的非均匀密度标长在毫米量级,所述的气体在泵浦光入射后形成等离子体,其密度在入射光的0.001倍至0.02倍临界密度之间;
3)将气体靶(2)放置在所述的泵浦光(1)的最佳强度位置;
4)从气体靶(2)输出调制光(3),该调制光(3)的频谱最大带宽高于100%的中心频率,能量转换率在90%以上。
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