[发明专利]一种自动曝光的调整方法、装置、设备及存储介质在审
| 申请号: | 202010245219.3 | 申请日: | 2020-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN113473032A | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
| 发明(设计)人: | 吕玉鹏;毛水江 | 申请(专利权)人: | 比亚迪半导体股份有限公司 |
| 主分类号: | H04N5/235 | 分类号: | H04N5/235 |
| 代理公司: | 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 | 代理人: | 张美君 |
| 地址: | 518119 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 自动 曝光 调整 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
1.一种自动曝光的调整方法,其特征在于,包括:
确定待曝光对象的对象平均亮度;
根据所述待曝光对象的对象平均亮度及获取到的基准目标亮度,预估所述待曝光对象的标记区域;
根据所述标记区域及所述基准目标亮度,确定最终目标亮度;
根据所述最终目标亮度及所述对象平均亮度,调整所述待曝光对象的曝光时间和增益值,以实现自动曝光调整。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定待曝光对象的对象平均亮度,包括:
将所述待曝光对象划分为至少两个区域;
分别确定每个所述区域的区域平均亮度;
根据所述区域平均亮度,确定所述对象平均亮度。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述待曝光对象的对象平均亮度及获取到的基准目标亮度,预估所述待曝光对象的标记区域,包括:
根据所述对象平均亮度及所述基准目标亮度,确定像素加权系数;
根据所述待曝光对象中每个像素的亮度及所述像素加权系数,确定所述待曝光对象的每个像素的像素预估亮度;
根据所述待曝光对象的像素预估亮度,确定所述待曝光对象的标记区域。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据所述待曝光对象的像素预估亮度,确定所述待曝光对象的标记区域,其中,所述标记区域包括过曝区域和/或过暗区域,包括:
将第一像素集所覆盖的区域,确定为所述待曝光对象的过曝区域,所述第一像素集为所有所述待曝光对象的像素预估亮度大于预设过曝阈值的像素的集合;
将第二像素集所覆盖的区域,确定为所述待曝光对象的过暗区域,所述第二像素集为所有所述待曝光对象的像素预估亮度小于预设过暗阈值的像素的集合。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据所述标记区域及所述基准目标亮度,确定最终目标亮度,包括:
根据所述标记区域的像素预估亮度,确定动态校正系数;
根据所述动态校正系数及所述基准目标亮度,确定所述最终目标亮度。
6.根据权利要求1-5任一项所述方法,其特征在于,所述根据所述最终目标亮度及所述对象平均亮度,调整所述待曝光对象的曝光时间和增益值,以实现自动曝光调整,包括:
若所述对象平均亮度大于所述最终目标亮度,增加所述曝光时间并调大所述增益值,直至所述对象平均亮度与所述最终目标亮度的差值在预设误差范围内;
若所述对象平均亮度小于所述最终目标亮度,减小所述曝光时间并调小所述增益值,直至所述对象平均亮度与所述最终目标亮度的差值在预设误差范围内。
7.根据权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,该方法还包括:
设定所述基准目标亮度。
8.一种自动曝光的调整装置,其特征在于,包括:
第一确定模块,用于确定待曝光对象的对象平均亮度;
预估模块,用于根据所述待曝光对象的对象平均亮度及获取到的基准目标亮度,预估所述待曝光对象的标记区域;
第二确定模块,用于根据所述标记区域及所述基准目标亮度,确定最终目标亮度;
调整模块,用于根据所述最终目标亮度及所述对象平均亮度,调整所述待曝光对象的曝光时间和增益值,以实现自动曝光调整。
9.一种电子设备,其特征在于,所述设备包括存储器、处理器以及存储在存储器上并可在处理器上运行的程序,所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1-7中任一项所述的方法。
10.一种存储介质,其上存储有程序,所述程序被处理器执行时实现如权利要求1-7中任一项所述的方法。
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