[发明专利]一种高压水射流清洗设备在审

专利信息
申请号: 202010177344.5 申请日: 2020-03-13
公开(公告)号: CN113385460A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 潘炳峰 申请(专利权)人: 上海施代科流体科技有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00;B05B9/04;B05B15/68
代理公司: 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 代理人: 李倩倩
地址: 201508 上海市金山区山*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 高压 水射流 清洗 设备
【权利要求书】:

1.一种高压水射流清洗设备,其特征是包括清洗室,所述清洗室内设有射流清洗装置、清洗物定位装置,所述射流清洗装置包括导轨座,所述导轨座上设有喷枪滑座,所述喷枪滑座上设有喷枪,所述导轨座的下方设有循环水柜,所述循环水柜的进口与所述清洗室的漏水地面连通,所述循环水柜的出口与所述喷枪连通,所述喷枪通过所述喷枪滑座在所述导轨座上移动至喷射清洗位置,高压泵将所述循环水柜内的喷洗液加压从所述喷枪喷射出清洗设在所述清洗物定位装置上的待洗目标物,射出的喷洗液从所述清洗室的漏水地面回流至所述循环水柜。

2.根据权利要求1所述的高压水射流清洗设备,其特征在于,所述导轨座上设有横向轨道,所述横向轨道上设有纵向轨道,所述纵向轨道上设有所述喷枪滑座,所述纵向轨道沿所述横向轨道滑动,所述喷枪滑座沿所述纵向轨道滑动,所述喷枪通过所述喷枪滑座、纵向轨道调节喷射清洗位置。

3.根据权利要求1所述的高压水射流清洗设备,其特征在于,所述清洗物定位装置包括上下定位装置、左右定位装置,

所述上下定位装置包括设在所述清洗室的天花板上的旋转上液压缸、设在所述清洗室的地板上的旋转下液压缸,所述旋转上液压缸与所述旋转下液压缸配合夹紧待洗目标物,夹紧待洗目标物的所述旋转上液压缸、旋转下液压缸绕夹紧端轴线自转来调整待洗目标物的清洗面,

所述左右定位装置包括设在所述清洗室内部左侧面上的旋转左液压缸、设在所述清洗室内部右侧面上的旋转右液压缸,所述旋转左液压缸与所述旋转右液压缸配合夹紧待洗目标物,夹紧待洗目标物的所述旋转左液压缸、旋转右液压缸绕夹紧端轴线自转来调整待洗目标物的清洗面。

4.根据权利要求1所述的高压水射流清洗设备,其特征在于,所述喷枪包括喷管段、喷头段,所述喷头段与所述喷管段铰接,所述喷管段上设有喷管自转控制器、喷头段摇摆控制器,所述喷头段上设有喷头自转控制器,所述喷管自转控制器驱动所述喷管段绕轴线自转,所述喷头段摇摆控制器驱动所述喷头段绕铰接处旋转摆动,所述喷头自转控制器驱动所述喷头段的喷头绕轴线自转。

5.根据权利要求4所述的高压水射流清洗设备,其特征在于,所述喷管自转控制器包括套设在所述喷管段外侧上的壳体A,所述壳体A内设有驱动电机A,所述驱动电机A的输出轴与驱动齿轮A传动连接,所述驱动齿轮A与所述喷管段的外侧形成轮齿传动连接A,所述驱动电机A驱动所述驱动齿轮A通过所述轮齿传动连接A带动所述喷管段绕轴线自转。

6.根据权利要求4所述的高压水射流清洗设备,其特征在于,所述喷头段摇摆控制器包括套设在所述喷管段外侧上的壳体B,所述壳体B内设有驱动电机B、皮带轮A,所述驱动电机B的输出轴与皮带轮A传动连接,所述皮带轮A与设在铰接处的皮带轮B通过皮带传动连接,所述皮带轮B通过铰接轴与所述喷头段连接,所述驱动电机B驱动所述皮带轮A通过所述皮带轮B带动所述喷头段绕铰接处旋转摆动。

7.根据权利要求4所述的高压水射流清洗设备,其特征在于,所述喷头通过若干高压密封轴承套设在所述喷头段的喷射端口外侧上,所述喷头自转控制器包括套设在所述喷头的外侧上的壳体C,所述壳体C内设有驱动电机C,所述驱动电机C的输出轴与驱动齿轮C传动连接,所述驱动齿轮C与所述喷头的外侧形成轮齿传动连接C,所述驱动电机C驱动所述驱动齿轮C通过所述轮齿传动连接C带动所述喷头绕轴线自转。

8.根据权利要求4所述的高压水射流清洗设备,其特征在于,所述喷头上设有多个喷孔,所述多个喷孔包括设在所述喷头中央部的中央喷孔,所述中央喷孔外围的喷头上环设有偏射喷孔。

9.根据权利要求8所述的高压水射流清洗设备,其特征在于,所述喷孔的孔道是沿喷射方向径向尺寸渐扩的通道结构。

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