[发明专利]基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法有效
申请号: | 202010145514.1 | 申请日: | 2020-03-05 |
公开(公告)号: | CN111368376B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 杜世昌;范圣耀;王勇 | 申请(专利权)人: | 力度工业智能科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | G06F30/17 | 分类号: | G06F30/17;G01B21/20;G06F111/10 |
代理公司: | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 滕诣迪 |
地址: | 215500 江苏省苏州市常熟高新技术*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 过程 模型 圆形 轮廓 误差 监控 方法 | ||
1.一种基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:测量圆柱表面,得到每个测量点的三维坐标数据;
步骤2:根据测量所述三维坐标数据,与标准值比对,得到真实值与理想值的误差;
步骤3:基于高斯过程模型建立圆形误差模型;
步骤4:确定模型中的均值函数及协方差函数
对于圆形轮廓而言,其误差项包含多种特征;因此,用常数项表示均值函数,用不同特征的组合表示协方差函数;
步骤5:估计模型参数;
对不同特征的协方差函数进行组合,可以得到多种高斯过程模型,分别对其进行参数估计;
步骤6:监控圆形轮廓误差
利用多元T2控制图监控圆形轮廓,并计算其检测异常轮廓的检出率;
步骤7:确定最优模型
比较所述不同模型的检出率,检出率最大的即为监控圆形误差的最优模型。
2.根据权利要求1所述的基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,步骤2、圆形轮廓误差表示为:
e=r(x,y,z)-R (1)
公式(1)中,e表示测量点的误差;
r为测量点到圆心的实际半径;
(x,y,z)为测量点的三维坐标数据;
R为拟合得到最小二乘圆的标准半径。
3.根据权利要求1所述的基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,步骤3:建立圆形误差模型,即高斯过程模型,表达式如式(2)所示:
e=f(t)+ε (2)
公式(2)中,e表示测量点的误差;
t=(x,y)为z坐标近似的测量点的二维坐标数据;
ε为噪音误差。
4.根据权利要求1所述的基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,在步骤4中,用平方指数S、线性L及周期性P协方差函数的不同组合表示协方差函数,即在S的基础上分别加上L与P,形成四种模型,分别表示为GP-S、GP-S+L、GP-S+P、GP-S+L+P。
5.根据权利要求4所述的基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,步骤4:确定模型中的均值函数及协方差函数;
对于圆形轮廓而言,其误差项常包含多种特征;因此,用常数项表示均值函数,用不同特征的组合表示协方差函数;具体的表达式为:
f(t)~GP(m(t),k(t,t′)) (3)
公式(3)中,t=(x,y)为z坐标近似的测量点的二维坐标数据;
m(t)表示均值函数,k(t,t′)表示协方差函数;
用常数项表示均值函数,具体的表达式为:
m(t)=a (4)
其中,a为常数项,即常均值函数;
平方指数协方差函数S的表达式为:
kS(X,X′)=sf2exp{-(X-X′)TM-1(X-X′)/2} (5)
公式(5)中,M=diag(l2),l表示尺度参数,sf2表示信号方差;
线性协方差函数L的表达式为:
kL(X,X′)=XTM-1X′ (6)
周期性协方差函数P的表达式为:
kP(X,X′)=sf2exp{-2[sin(w)]TM-1sin(w)} (7)
公式(7)中,w=π(X-X′)/P,P表示周期参数。
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