[发明专利]基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法有效

专利信息
申请号: 202010145514.1 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN111368376B 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 杜世昌;范圣耀;王勇 申请(专利权)人: 力度工业智能科技(苏州)有限公司
主分类号: G06F30/17 分类号: G06F30/17;G01B21/20;G06F111/10
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 滕诣迪
地址: 215500 江苏省苏州市常熟高新技术*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 过程 模型 圆形 轮廓 误差 监控 方法
【权利要求书】:

1.一种基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1:测量圆柱表面,得到每个测量点的三维坐标数据;

步骤2:根据测量所述三维坐标数据,与标准值比对,得到真实值与理想值的误差;

步骤3:基于高斯过程模型建立圆形误差模型;

步骤4:确定模型中的均值函数及协方差函数

对于圆形轮廓而言,其误差项包含多种特征;因此,用常数项表示均值函数,用不同特征的组合表示协方差函数;

步骤5:估计模型参数;

对不同特征的协方差函数进行组合,可以得到多种高斯过程模型,分别对其进行参数估计;

步骤6:监控圆形轮廓误差

利用多元T2控制图监控圆形轮廓,并计算其检测异常轮廓的检出率;

步骤7:确定最优模型

比较所述不同模型的检出率,检出率最大的即为监控圆形误差的最优模型。

2.根据权利要求1所述的基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,步骤2、圆形轮廓误差表示为:

e=r(x,y,z)-R (1)

公式(1)中,e表示测量点的误差;

r为测量点到圆心的实际半径;

(x,y,z)为测量点的三维坐标数据;

R为拟合得到最小二乘圆的标准半径。

3.根据权利要求1所述的基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,步骤3:建立圆形误差模型,即高斯过程模型,表达式如式(2)所示:

e=f(t)+ε (2)

公式(2)中,e表示测量点的误差;

t=(x,y)为z坐标近似的测量点的二维坐标数据;

ε为噪音误差。

4.根据权利要求1所述的基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,在步骤4中,用平方指数S、线性L及周期性P协方差函数的不同组合表示协方差函数,即在S的基础上分别加上L与P,形成四种模型,分别表示为GP-S、GP-S+L、GP-S+P、GP-S+L+P。

5.根据权利要求4所述的基于高斯过程模型的圆形轮廓误差监控方法,其特征在于,步骤4:确定模型中的均值函数及协方差函数;

对于圆形轮廓而言,其误差项常包含多种特征;因此,用常数项表示均值函数,用不同特征的组合表示协方差函数;具体的表达式为:

f(t)~GP(m(t),k(t,t′)) (3)

公式(3)中,t=(x,y)为z坐标近似的测量点的二维坐标数据;

m(t)表示均值函数,k(t,t′)表示协方差函数;

用常数项表示均值函数,具体的表达式为:

m(t)=a (4)

其中,a为常数项,即常均值函数;

平方指数协方差函数S的表达式为:

kS(X,X′)=sf2exp{-(X-X′)TM-1(X-X′)/2} (5)

公式(5)中,M=diag(l2),l表示尺度参数,sf2表示信号方差;

线性协方差函数L的表达式为:

kL(X,X′)=XTM-1X′ (6)

周期性协方差函数P的表达式为:

kP(X,X′)=sf2exp{-2[sin(w)]TM-1sin(w)} (7)

公式(7)中,w=π(X-X′)/P,P表示周期参数。

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