[发明专利]匀场支架组件及匀场支架总装有效
申请号: | 202010121290.0 | 申请日: | 2020-02-26 |
公开(公告)号: | CN111175679B | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 房伟;运晓靖 | 申请(专利权)人: | 上海东软医疗科技有限公司;东软医疗系统股份有限公司 |
主分类号: | G01R33/24 | 分类号: | G01R33/24;G01R33/38;G01R33/385;A61B5/055 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 靳玫 |
地址: | 200241 上海市闵*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 支架 组件 总装 | ||
本申请公开一种匀场支架组件及匀场支架总装。该匀场支架组件包括支架本体、第一底座、第一涨紧块、第二底座和第二涨紧块,其中,所述第一底座和所述第一涨紧块构成适用于发射线圈的第一组配件,所述第二底座和第二涨紧块构成适用于梯度线圈的第二组配件,所述支架本体包括相对的顶端和底端,所述第一组配件和所述第二组配件择一的安装于所述支架本体且每组所述配件中的所述涨紧块位于所述顶端,所述底座位于所述底端,因此,只需要在支架本体上安装第一组配件或者第二组配件即可构成适用于定位基准的匀场支架,在需要更改定位基准的情况下,不用重新设计一款匀场支架,从而,不会使得整体设计及制作成本增加。
技术领域
本申请涉及医疗设备,尤其涉及匀场支架组件及匀场支架总装。
背景技术
MR(Magnetic Resonance,也称之为医用磁共振成像)技术对磁场均匀性的要求很高,所谓磁场均匀性是指在一定的容积范围内磁场强度的均一性,也即是单位面积内通过的磁力线数目的一致性。匀场支架的作用就是固定磁场测量装置。磁场测量装置用于测量磁场的分布。
通常情况下,在测量磁场分布时,大部分的匀场支架都以发射线圈作为定位基准。如果更改定位基准(如以梯度线圈的内部作为定位基准),则需要重新设计一款匀场支架,从而,使得整体设计及制作成本增加。
发明内容
为克服相关技术中存在的部分或者所有问题,本申请提供一种匀场支架组件。该匀场支架组件包括支架本体、第一底座、第一涨紧块、第二底座和第二涨紧块,其中,所述第一底座和所述第一涨紧块构成适用于发射线圈的第一组配件,所述第二底座和第二涨紧块构成适用于梯度线圈的第二组配件,所述支架本体包括相对的顶端和底端,所述第一组配件和所述第二组配件择一的安装于所述支架本体且每组所述配件中的所述涨紧块位于所述顶端,所述底座位于所述底端。
另一方面,本申请还提供一种匀场支架总装。该匀场支架总装包括第一匀场支架、第二匀场支架、分度盘和磁场测量装置。所述分度盘连接于所述磁场测量装置,且两者作为整体连接于所述第一匀场支架和所述第二匀场支架,该分度盘带动所述磁场测量装置同步转动。所述的匀场支架组件的第一组配件和第二组配件择一的安装于所述支架本体以构成所述第一匀场支架。匀场支架组件的第一组配件和第二组配件择一的安装于所述支架本体以构成所述第二匀场支架。
本申请的实施方式提供的技术方案至少具有以下有益效果:
由于所述第一组配件和第二组配件择一的安装于所述支架本体且每组所述配件中的所述涨紧块位于所述顶端,所述底座位于所述底端,这样,支架本体上安装所述第一组配件适用于定位基准为发射线圈的情况,支架本体上安装所述第二组配件适用于定位基准为梯度线圈的情况,因此,只需要在支架本体上安装相应的配件即可构成适用于定位基准的匀场支架,在需要更改定位基准的情况下,不用重新设计一款匀场支架,从而,不会使得整体设计及制作成本增加。此外,第一底座、第一涨紧块、第二底座和第二涨紧块都与支架本体分离,可单独包装,占用空间小。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本申请。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本申请的实施方式,并与说明书一起用于解释本申请的原理。
图1是一种匀场支架的结构示意图,该匀场支架包括第一底座和第一涨紧块;
图2是第二底座的结构示意图;
图3是第二涨紧块的结构示意图;
图4是一种匀场支架总装的结构示意图;
图5是图4所述的匀场支架总装放置于发射线圈的示意图;
图6是另一种匀场支架总装放置于梯度线圈的示意图,该匀场支架总装将图4所示的匀场支架总装的第一底座和第一涨紧块更换为第二底座和第二涨紧块而形成。
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