[发明专利]立体光刻设备和用于调设立体光刻设备的方法有效

申请号：	202010118237.5	申请日：	2020-02-26
公开（公告）号：	CN111619105B	公开（公告）日：	2023-07-28
发明（设计）人：	M·韦特斯登;S·盖斯布尔勒	申请（专利权）人：	伊沃克拉尔维瓦登特股份公司
主分类号：	B29C64/124	分类号：	B29C64/124;B29C64/264;B29C64/393;B33Y30/00;B33Y50/02
代理公司：	中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038	代理人：	李鸿达
地址：	列支敦***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	立体光刻设备用于方法
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【权利要求书】：

1.立体光刻设备(100)，所述立体光刻设备包括：

光源(101)，所述光源用于发出用于固化光固化材料(121)的光；

传感器(103)，所述传感器用于确定所发出的光的光强度的实际值；和

控制单元(105)，所述控制单元用于适配通过所述光源(101)的电流，直至所述光强度的实际值达到预给定的额定值为止，其中，所述立体光刻设备(100)构造用于经由数字微镜器件(113)将光从所述光源(101)转向到所述传感器(103)，所述数字微镜器件用于将光图案(123)投射到所述光固化材料(121)上。

2.按照权利要求1所述的立体光刻设备(100)，其中，所述数字微镜器件(113)与棱镜面相邻地设置。

3.按照权利要求1或2所述的立体光刻设备(100)，其中，所述立体光刻设备(100)构造用于通过所述数字微镜器件(113)将预给定的光图案投射到所述传感器(103)上。

4.按照权利要求1或2所述的立体光刻设备(100)，其中，所述立体光刻设备(100)包括用于将光转向到所述传感器(103)上的镜面(109)。

5.按照权利要求4所述的立体光刻设备(100)，其中，所述镜面(109)与棱镜光阑(117)相邻地设置。

6.按照权利要求1或2所述的立体光刻设备(100)，其中，所述传感器(103)特别构造用于检测在所述立体光刻设备中使用的光谱。

7.按照权利要求6所述的立体光刻设备(100)，其中，所述传感器(103)通过光电二极管构成。

8.按照权利要求1或2所述的立体光刻设备(100)，其中，所述控制单元(105)包括用于调节通过所述光源(101)的电流的调节器(119)。

9.用于调设立体光刻设备(100)的方法，所述方法具有以下步骤：

-借助于光源(101)发出(S101)用于固化光固化材料(121)的光；

-确定(S102)所发出的光的光强度的实际值；并且

-适配(S103)通过所述光源(101)的电流，直至所述光强度的实际值达到预给定的额定值为止，其中，通过数字微镜器件(113)将光从所述光源(101)转向到传感器(103)，所述传感器用于将光图案(123)投射到所述光固化材料(121)上。

10.按照权利要求9所述的方法，其中，通过所述数字微镜器件(113)将预给定的光图案投射到传感器(103)上。