[发明专利]一种新型的涂层清洗方法

权利要求书

1.一种新型的涂层清洗方法，其特征在于，该方法采用的清洗装置包括用于产生激光的激光发生系统、用于聚焦激光的光路转换系统、用于与激光配合的吸收层涂覆系统、用于控制清洗装置移动的运动系统、用于回收脱落涂层的回收系统、用于产生离子水层的喷水系统以及控制系统，所述的激光发生系统、光路转换系统、吸收层涂覆系统、运动系统、回收系统及喷水系统均与控制系统电性连接；该清洗方法具有如下步骤：

步骤1：利用吸收层涂覆系统将待清洗工件表面均匀涂覆上吸收层，并放置在工作台上，所述吸收层为胶带、黑漆或深色液膜，厚度0.01mm～2mm；

步骤2：根据预设的激光参数启动激光发生系统产生激光束，激光束与步骤1中的待清洗工件相对；

步骤3：将步骤2中的激光通过光路转换系统聚焦成预设的激光光斑尺寸，聚焦激光束形成预设的激光光斑尺寸；

步骤4：由控制系统启动喷水系统向待清洗工件吸收层表面喷水，从而在吸收层表面形成离子流动水层，作为激光清洗时的约束层；

步骤5：聚焦激光束经过离子流动水层照射在吸收层上，激光与吸收层相互作用产生等离子体爆炸，等离子体爆炸在约束层的约束作用下产生向涂层及工件方向传播的高压冲击波，在高压冲击波作用下，工件表面涂层脱落，脱落后的涂层进入回收系统；

步骤6：由控制系统控制清洗装置按照设定的清洗轨迹移动，最终完成整个工件表面的涂层清洗；

所述步骤2中激光参数为脉宽范围为5ms～1000ms，波长为530nm～1080nm，能量为10J～1000J，功率密度范围10⁷～10¹²GW/cm²，激光脉冲重复频率0.001Hz～100Hz，当5PS≥H+2h时，对工件正反两面进行涂层清除；当5PS＜H+2h时，对工件正或反面单面进行涂层清除；其中，P为激光脉宽，S为冲击波波速，H为工件厚度，h为涂层厚度。

2.根据权利要求1所述的一种新型的涂层清洗方法，其特征在于，所述步骤1中待清洗工件表面涂层的厚度为1μm～10000μm。

3.根据权利要求1所述的一种新型的涂层清洗方法，其特征在于，所述步骤3中激光光斑尺寸1mm～500mm。

4.根据权利要求1所述的一种新型的涂层清洗方法，其特征在于，所述步骤4中的离子流动水层为去离子水，去离子水电阻率大于10兆欧·厘米，离子流动水层的厚度为1mm～2mm。