[发明专利]导电性薄膜和触摸面板在审
| 申请号： | 202010085809.4 | 申请日： | 2020-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN111554431A | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 西岛仁志;成田悠;鹰尾宽行 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;G06F3/044;G06F3/045 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 导电性 薄膜 触摸 面板 | ||
1.一种导电性薄膜，其特征在于，其在厚度方向的一个方向上依次具备透明基材、透明导电层、铜层和氧化覆膜层，
所述氧化覆膜层的厚度方向上的一面的水接触角为70°以上。
2.根据权利要求1所述的导电性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜层的厚度方向上的一面中的氢氧化铜的比率为20面积％以下。
3.根据权利要求1所述的导电性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜层的厚度方向上的一面中的铜的比率为25面积％以下。
4.根据权利要求2所述的导电性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜层的厚度方向上的一面中的铜的比率为25面积％以下。
5.根据权利要求1所述的导电性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜层的厚度方向上的一面中的氧化铜(I)的比率为40面积％以上。
6.根据权利要求2所述的导电性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜层的厚度方向上的一面中的氧化铜(I)的比率为40面积％以上。
7.根据权利要求3所述的导电性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜层的厚度方向上的一面中的氧化铜(I)的比率为40面积％以上。
8.根据权利要求4所述的导电性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜层的厚度方向上的一面中的氧化铜(I)的比率为40面积％以上。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的导电性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜层的厚度为5nm以上。
10.一种触摸面板，其特征在于，其具备权利要求1～9中任一项所述的导电性薄膜。
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