[发明专利]一种不确定结构电大目标电磁散射特性分析方法及装置在审
申请号: | 202010081535.1 | 申请日: | 2020-02-06 |
公开(公告)号: | CN111368398A | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 陈勇;李焕敏;党训旺;郝津钏;殷红成 | 申请(专利权)人: | 北京环境特性研究所 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20 |
代理公司: | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人: | 周娇娇 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 不确定 结构 电大 目标 电磁 散射 特性 分析 方法 装置 | ||
1.一种不确定结构电大目标电磁散射特性分析方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、采用非有理B样条曲面建模,构建含可变结构的目标几何模型,以控制点描述目标结构的不确定性,各所述控制点的坐标值根据实际情况表示为不同的随机变量;
S2、根据所述目标几何模型,基于物理光学近似法得到远区散射场积分方程,并引入目标结构的不确定性,通过泰勒级数展开实现确定项与随机项的分离,计算随机项远区散射场,得到电大目标的电磁散射特性结果。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:
所述步骤S1中采用非有理B样条曲面建模,构建含可变结构的目标几何模型时,目标上的任意一点表示为:
其中,u、v分别表示曲面节点矢量,Ri,j(u,v)表示基于节点矢量的分段有理基函数,Pij表示控制点,m、n分别表示两个维度上的总控制点数,i、j分别表示各控制点的编号。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:
所述步骤S2中,基于物理光学近似法得到远区散射场积分方程时,由斯特拉顿-朱兰成方程得到良导体目标的远区散射场表达式为:
其中,Es(r)表示远区散射场,r表示坐标原点到观察点的矢径,k表示电磁波波数,η表示磁导率,R0表示观察点与目标的距离,s表示目标表面的照明部分,和分别表示入射方向和观察方向的单位矢量,n表示表面法向单位矢量,Hi表示入射磁场强度,r'表示坐标原点到散射源处的矢径。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于:
所述步骤S2中引入目标结构的不确定性后,得到如下表达式:
E(αI)=b(αI)
其中,E(αI)表示远区散射场,αI表示区间中的任意值,αc和分别表示不确定量的确定部分和随机部分,b(αI)表示基于不确定性表示的目标散射场物理光学近似计算式。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于:
所述步骤S2中通过泰勒级数展开实现确定项与随机项的分离时,对b(αI)进行一阶泰勒级数展开,得:
其中,n表示随机变量的个数,αi表示第i个随机变量,Δαi表示第i个随机变量的最大变化范围。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于:
所述步骤S2中计算随机项散射场时,采用如下公式:
Ec+ΔEI=b(αc)+ΔbI
其中,ΔEI表示远区散射场的变化量,Ec表示目标尺寸为αc时的远区散射场,定义为:
Ec=b(αc)
则有:
结合良导体目标的远区散射场表达式,有:
其中,A表示与αi对应的区域面积;
进而计算出ΔEI,得到含不确定结构电大目标的电磁散射特性结果。
7.一种不确定结构电大目标电磁散射特性分析装置,其特征在于,包括:
建模单元,用于采用非有理B样条曲面建模,构建含可变结构的目标几何模型,以控制点描述目标结构的不确定性,各所述控制点的坐标值根据实际情况表示为不同的随机变量;
解算单元,用于根据所述目标几何模型,基于物理光学近似法得到远区散射场积分方程,并引入目标结构的不确定性,通过泰勒级数展开实现确定项与随机项的分离,计算随机项散射场,得到电大目标的电磁散射特性结果。
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