[发明专利]光敏树脂提拉成型设备及方法

权利要求书

1.一种光敏树脂提拉成型设备，其特征在于包括成型平台(101)、树脂槽单元、控制系统(109)及至少一个投影系统(110)；

成型平台(101)位于树脂槽单元上方，成型平台与控制系统(109)电性连接，成型平台(101)在控制系统(109)控制下上下移动，提拉成型的三维构件(102)位于成型平台(101)和透光膜(105)之间，并粘附在所述成型平台(101)上；

所述树脂槽单元包括树脂槽(103)，树脂槽(103)内部设有底部的透光底板(107)、位于透光底板(107)上方的透光液体介质(106)、位于透光液体介质(106)上表面的透光膜(105)、位于透光膜(105)上表面的液体光敏树脂(104)，透光膜(105)隔离所述液体光敏树脂(104)与所述透光液体介质(106)；所述树脂槽(103)用于盛放液体光敏树脂，所述透光膜(105)为聚合物高分子膜，所述透光液体介质(106)为可流动性的液体，所述透光底板(107)为刚性平板结构，为所述透光液体介质提供刚性支撑；

控制系统(109)与所述成型平台、所述投影系统电性连接，所述控制系统用于控制所述成型平台的升降、控制所述投影系统向树脂槽单元发出数字影像信号、处理三维模型数据和光敏树脂匹配的提拉成型工艺参数；

投影系统位于透光底板(107)下方，投影系统发出数字影像光线，所述数字影像光线穿过所述透光底板、透光液体介质和透光膜，使所述树脂槽中的光敏树脂固化。

2.根据权利要求1所述的光敏树脂提拉成型设备，其特征在于：所述透光膜(105)为含有硅基或氟基的聚合物高分子膜，厚度0.01-10mm，杨氏模量不高于5GPa，200nm-1000nm波长范围的光线透过率不低于50％。

3.根据权利要求1所述的光敏树脂提拉成型设备，其特征在于：所述透光膜(105)与透光底板(107)之间形成夹层，所述夹层填充所述透光液体介质(106)，夹层的出口经管路连接至温控循环控制器(111)的入口，温控循环控制器(111)的出口经管路和泵体连接夹层的入口，所述透光液体介质(106)在泵体的驱动下在所述夹层和温控循环控制器(111)间循环，透光液体介质(106)在20摄氏度条件下粘度为0.01-100000mPa.s。

4.根据权利要求3所述的光敏树脂提拉成型设备，其特征在于：所述夹层厚度为0.1-500mm，所述透光液体介质在所述夹层厚度下，200nm-1000nm波长范围的光线透过率不低于50％。

5.根据权利要求1所述的一种光敏树脂提拉成型设备，其特征在于：所述透光底板的杨氏模量不低于5GPa，厚度0.1-200mm，200nm-1000nm波长范围的光线透过率不低于50％。

6.根据权利要求1所述的一种光敏树脂提拉成型设备，其特征在于：所述投影系统位于所述透光底板下方，投影成像方式为LCD、DLP、SXRD、LCOS中的一种，投影系统采用所述投影成像方式中的一种发出数字影像光线。

7.根据权利要求6所述的一种光敏树脂提拉成型设备，其特征在于：所述的数字影像光线波长峰值范围在200nm-1000nm。

8.根据权利要求1所述的一种光敏树脂提拉成型设备，其特征在于：所述树脂槽(103)用于盛放液体光敏树脂，其侧壁由金属、无机非金属或高分子材料构成。