[发明专利]自动分析装置在审
申请号: | 202010073411.9 | 申请日: | 2020-01-22 |
公开(公告)号: | CN111474372A | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 朝仓诚;山下峰;中井亲;布川和城 | 申请(专利权)人: | 日本电子株式会社 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 分析 装置 | ||
1.一种自动分析装置,其中,
该自动分析装置包括:
测量部,其具有容纳单元、分注单元以及计量部,该容纳单元具有容纳有液体的多个容器,该分注单元包括用于分注所述液体的分注探头,该计量部对通过所述分注单元分注的液体进行计量;
过量浸渍判断部,其判断所述分注探头的浸渍是否是超过了预定的范围的过量浸渍;
设定输入部,其能够从多个模式中选择并设定在所述过量浸渍判断部判断为所述过量浸渍之后的所述测量部的动作;以及
控制部,其根据由所述设定输入部设定的内容来控制所述测量部。
2.根据权利要求1所述的自动分析装置,其中,
所述多个模式具有:继续模式,在该继续模式下,使所述分注探头的分注动作继续进行;停止模式,在该停止模式下,在分注完成后的液体的计量结束之后使所述测量部停止;以及部分停止模式,在该部分停止模式下,仅使所述分注探头的动作停止。
3.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其中,
该自动分析装置包括液面传感器,该液面传感器输出与所述分注探头的与液体接触的接触状态相对应的信号,
所述过量浸渍判断部在所述液面传感器的输出值超过了预先确定的阈值的情况下判断为所述过量浸渍。
4.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其中,
该自动分析装置包括液面传感器,该液面传感器输出与所述分注探头的与液体接触的接触状态相对应的信号,
所述过量浸渍判断部根据所述分注探头的顶端接触于所述液体的液面的时刻、所述分注探头到达抽吸所述液体的位置的时刻、以及所述分注探头的速度来计算出所述分注探头浸渍于所述液体的距离即浸渍距离,在所述浸渍距离超过了预先确定的上限值的情况下判断为所述过量浸渍。
5.根据权利要求4所述的自动分析装置,其中,
所述设定输入部能够进行根据所述浸渍距离使模式不同的设定。
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